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有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜します
『AD-230LP』は、原子レベルの膜厚制御が可能なALD装置です。 有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜。 ロードロック室を有し、反応室を大気開放することがないため、再現性に 優れた成膜が可能です。 また、容量結合プラズマ(CCP)方式を採用することで、反応室容積を最小化 しており、ガスのパージ時間を短縮し、1サイクルを高速化します。 【特長】 ■上部、中部、底部とコンフォーマルな成膜 ■原子一層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能 ■高アスペクト比構造へのコンフォーマルな成膜が可能 ■面内均一性と再現性に優れ、安定したプロセスを実現 ■独自の反応室構造により、パーティクルを抑制 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
4.5世代、5.5世代角基板を成膜します
ハイテックシステムズは、ALD（Atomic Layer Deposition）装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD（Atomic Layer Deposition）事業部門で先端のALD（原子層堆積）技術開発を行い、世界の研究機関、大学、企業にて最も使われている開発用、量産試作用、ALD装置のメーカーです。量産用ALD装置、大面積基板ALD装置についても市場にて実績があり、ご要望に対応しております。
バッチ装置 複数のカセットを同時成膜、大きな３D基板成膜が可能です。
ハイテックシステムズは、ALD（Atomic Layer Deposition）装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD（Atomic Layer Deposition）事業部門で 先端のALD（原子層堆積）技術開発を行い、世界の研究機関、大学、企業にて最も使われている開発用、量産試作用、ALD装置のメーカーです。量産用ALD装置、大面積基板ALD装置についても市場にて実績があり、ご要望に対応しております。
プラズマ、サーマル両方のALD成膜が可能です。
ハイテックシステムズは、ALD（Atomic Layer Deposition）装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD（Atomic Layer Deposition）事業部門で 先端のALD（原子層堆積）技術開発を行い、世界の研究機関、大学、企業にて最も使われている開発用、量産試作用、ALD装置のメーカーです。量産用ALD装置、大面積基板ALD装置についても市場にて実績があり、ご要望に対応しております。
ALDでは難しいと言われている低温(室温)での高品質な成膜が可能！
【特徴】 ・バブリングH2O/Ar及びHighDencityPlasmaを使用したOHラジカル酸化 ・緻密でcovaregeの良好な膜形成緻密で均質、かつ均一の厚みの膜が形成可能 ・ほとんどの金属酸化膜に対応可能 ・どのような基板（材質、平坦性、形状等々）でも密着性良く成膜可能 ・用途に応じた膜厚の制御が可能 ・室温で成膜可能 【応用例】 ・大面積対応可能 ・TGV/防湿膜 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 クリエイティブコーティングスでは、テスト成膜やサンプル作成を承っております。 お客様のご要望を聞きし、適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。 まずはお気軽にご相談ください。 ++++++++++++++++++++++++++++++ 時代と環境が求める次世代の気相技術を提供します。 半導体向け低温(室温)ALD装置と粉体低温(室温)ALD成膜装置の二刀流技術で技術革新に貢献します。
共に成長する研究開発向けALD装置
『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、 高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。 マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを 最小限に抑えるよう特殊設計されています。 また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を 特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする 技術ソリューションを提供いたします。 【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
