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実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置
☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT ＜実験目的にあわせたカスタマイズ!!＞ 1．試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2．カソードサイズは2〜6インチに対応 3．2インチカソードタイプは3源式にも対応 ＝ 薄膜の積層を実現 4．多彩なオプションをご用意 基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.
実験目的に合わせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置
金属薄膜はもちろん、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置 【特徴】 ○試料サイズに合わせた3種類のチャンバーをご用意 〇カソードサイズは2、４、6インチに対応 〇2インチカソードタイプは3源式にも対応 ⇒ 積層薄膜作製を実現 〇多彩なオプションをご用意 基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.
コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイズ ■試料サイズ：最大φ2インチ ■膜厚センサー追加可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
