円筒ITOターゲット
円筒ITOターゲットのパイオニア、ユミコア社製円筒形ITOスパッタリングターゲットです。
特徴： -. 組成：90wt% In2O3 ー10wt% SnO2はもちろん、SnO2の組成比を1wt%から20wt%まで柔軟に対応致します。 -. 最長670ｍｍまで分割無しで製作可能です。 -. 平面形状、ディスク形状でのご提供も可能です。
- 企業：株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
- 価格：応相談
ターゲット×株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン - メーカー・企業と製品の一覧
ターゲットの製品一覧
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円筒ターゲット
スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並びに蒸着材料をリーズナブルな価格でご提供致します。
以下製法で円筒ターゲットを作製します。 １．製法：溶解材押出し一体もの 代表的材料：Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ 利点：割れるリスクがない、低速回転可能 欠点：高純度品が無い ２．製法：プラズマスプレイ 代表的材料：Ｓｉ、Ａｇ、ＺｎＡｌ等 利点：割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点：５Ｎ以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに時間がかかる 註：表面仕上方法により初期立上げ時間を短縮可能 ３．製法：コールドスプレイ 代表的材料：Ａｇ 等 利点：割れるリスクが比較的少ない、使用済みターゲットの上にそのまま溶射できる。 欠点：プラズマスプレイ法より高価。初期立上げに時間がかかる。 註：上記２と同じ ４．製法：キャストターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：特殊合金等 利点：高純度品が可能。 欠点：切れ目からのアークのリスクがある。低速回転にて、割れたりインジウムが溶ける。高価。投入限界パワーが低い。 ５．製法：焼結ターゲットのインジウムボンディング 代表的材料：ＩＴＯ、ＡＺＯ等 利点：高純度品が可能。材料を選ばない。 欠点：上記４と同じ
- 企業：株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
- 価格：応相談
