チャンバのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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チャンバ×株式会社MSAファクトリー - 企業1社の製品一覧

製品一覧

1~10 件を表示 / 全 10 件

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ホットプレート温度チャンバーHB-420

光デバイス、電子部品、デバイス評価に最適!

小型恒温槽として、卓上、顕微鏡下での試験・評価に最適です。 また、上面は耐熱ガラス製、透明扉ですので、視認性がよく、発光デバイスの試験、顕微鏡視察などの試験にも適しております。 扉はフリーストップ構造により、任意の角度で保持することができます。デジタル温度コントローラーにて精密温度制御も可能です。 その他、電気信号取り出し用コネクタはD-SUB、BNCなどカスタマイズもできます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他

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真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」

加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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ペルチェ 温度チャンバー 「PG-1506」

窒素ガス、乾燥空気導入チャンバーにより、低温試験時での結露がありません

ペルチェ 温度チャンバー 「PG-1506」は、上面が耐熱ガラスの透明扉ですので、視認性がよく、また、発光デバイスの試験、顕微鏡観察、カメラ観察による評価に適しております。 窒素ガス、乾燥空気導入チャンバーにより、低温試験時での結露がありません。 【特徴】 ○温度範囲 -40~150℃ 対応 ○扉はフリーストップ構造により、任意の角度で保持している ○MSA デジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 温湿度制御

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ホットプレート用チャンバー 「PHH-300型」

電子部品、基板等の信頼性評価、特性評価、バーンインなどに最適です。

ホットプレート用チャンバー 「PHH-300型」は、電子部品、基板等の信頼性評価、特性評価、バーンインなどに最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 25~200℃、0.1℃単 ○温度分布 ±1.5% ○プレートサイズ 300×200mm ○試験用治具 *製作対応いたします ○制御ソフトウェア 温度設定、温度モニター 、電源機器等オプション対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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ペルチェ温度チャンバーPG-0806

光デバイス、電子部品、デバイス評価に最適!

小型恒温槽として、卓上、顕微鏡下での試験・評価に最適です。 また、上面はアクリル(または耐熱ガラス)の透明扉ですので、視認性がよく、発光デバイスの試験、顕微鏡視察などの試験にも適しております。 扉はフリーストップ構造により、任意の角度で保持することができます。デジタル温度コントローラーにて精密温度制御も可能です。 その他、電気信号取り出し用コネクタはD-SUB、BNCなどカスタマイズもできます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他

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真空ホットプレートチャンバー PH-224型

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での高速昇温加熱プロセスに!

「PH-224型」は最高温度400℃ 対応の真空ホットプレートチャンバーです。小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。また、観察窓により、ワークの状態が視認できます。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できます。空冷にて、最高温度400℃対応です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他

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半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃!小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○バルブ動作 自動対応(レシピに合わせてプログラム可能) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • その他半導体製造装置
  • 加熱装置

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半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」

小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ2枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度 300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより  プロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できる ○バルブ動作 自動対応(レシピに合わせてプログラム可能) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 室温~200℃ ○プレートサイズ 200×200mm ○圧力範囲 -100KPa(真空)~0.02MPa(N2ガス充填時) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 加熱装置

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簡易ドラフトチャンバー「CBB-1200型」

実験・研究用、バイオ関連、薬品の保管などに。

・カスタム可能な簡易ドラフトチャンバーです。 ・少ない投資でドラフトチャンバーを導入できます。 ・サイズ、パネル・扉の材質、扉の可動範囲等、あらゆる項目がカスタマイズ可能です。 ・貴社の設置スペースに合ったドラフトを製作致します。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他

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