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最終更新日:2014年03月20日

株式会社MSAファクトリー
株式会社MSAファクトリー
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最高温度400℃!小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○バルブ動作 自動対応(レシピに合わせてプログラム可能) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

    その他半導体製造装置加熱装置
10_PH224S_200.png

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

10_PH224S_200.png
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基本情報

【標準仕様】 ○温度設定範囲:室温~400℃(カスタマイズ可) ○ワークサイズ:最大200×200mm(カスタマイズ可) ○昇温スピード:100℃/min(カスタマイズ可) ○圧力範囲:-100KPa(真空)~0.02MPa(N2ガス充填時) ○酸素濃度計、ピラニ真空計、温度モニター用ポート ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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【アプリケーション例】 ○金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での  高速昇温加熱プロセス、はんだ付け ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

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