金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価
真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 室温～200℃ ○プレートサイズ 200×200mm ○圧力範囲 -100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【特徴】 ○最高温度 200℃ 対応 →真空ホットプレートチャンバー、バッチ炉 ○小型・卓上バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○チャンバーとプレートを一体化し、 部品点数の削減、低価格化をはかっている ○温度コントローラーは、専用タイプにより プロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できる ○バルブ動作 自動対応（レシピに合わせてプログラム可能） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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用途／実績例
【用途】 ○金属、ウエハ等の真空雰囲気および 低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
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