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一般的なイオン交換型金属除去膜から半導体アプリケーションに特化した金属除去膜まで幅広いラインナップ。
Iongard SL purifier イオン交換型有機溶剤向け金属除去 Nylonpolar Purifier Cobetterオリジナルの金属除去膜。表面修飾型ナイロン基膜を使用。酸を発生させないため、Lithography用材料に最適 Iongard Polar Purifier 極性有機溶剤に有効な金属除去 Cemdeion Purifier 表面修飾型テフロン基膜。最終洗浄液として使用されるIPAや、耐薬品性を要求する有機溶剤に対して使用可能
高流量を発揮！最高使用温度は50℃で最大使用差圧は0.34MPa＠25℃
『NY6シリーズ』は、正電荷を持つ天然親水性ナイロン膜を 採用しているフィルターです。 多くの有機溶剤に対する耐薬品性がありながら、高流量を発揮。 構成部材がPPとHDPEから選択できます。HDPEの使用により、溶出が 抑えられ、溶剤ベースのフォトケミカルのろ過に適しています。 【特長】 ■正電荷を持つ天然親水性ナイロン膜を採用 ■多くの有機溶剤に対する耐薬品性がある ■構成部材がPPとHDPEから選択可能 ■HDPEの使用により、溶出が抑えられる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多様なろ過精度が選択可能！コストパフォーマンスに優れたデプスプリーツフィルター
『EPPシリーズ』は高純度ポリプロピレン樹脂を採用し、熱溶着技術により 接着剤を使用していない為、金属イオンの溶出量が電子産業の要求レベルを 満足しているフィルターです。 ナノファイバーろ材により、高流量と長寿命を実現。耐薬品性に優れており、 各種の酸、アルカリ、溶剤のろ過に適しています。 また、0.1μm～25μmの多様なろ過精度が選択可能です。 【特長】 ■高純度ポリプロピレン樹脂を採用 ■金属イオンの溶出量が電子産業の要求レベルを満足している ■ナノファイバーろ材により、高流量と長寿命を実現 ■コストパフォーマンス・耐薬品性に優れている ■各種の酸、アルカリ、溶剤のろ過に適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
バインダーや界面活性剤は一切不使用！溶出物の心配がないデプスフィルターをご紹介
『MBCYシリーズ』は、外側から連続的に孔径が小さくなる、超高捕捉能力 メルトブローフィルターです。 内側部分にナノファイバーを使用しますので、高い除去効率を有すると 同時に高い集塵能力を保有。 内側部分のろ過層の孔径が均一であり、微細な異物も捕捉でき、スラリー、 メッキ液、溶剤等の最終ろ過に適しています。 【特長】 ■外側から連続的に孔径が小さくなる ■内側部分にナノファイバーを使用 ■高い除去効率を有すると同時に高い集塵能力を保有 ■内側部分のろ過層の孔径が均一で、微細な異物も捕捉可能 ■スラリー、メッキ液、溶剤等の最終ろ過に適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子分野のほとんどのケミカル品と、有機溶剤のろ過に適したメンブレンフィルター！
『LPF/LHPFシリーズ』は、PTFE膜を使用しており、幅広い流体に対して 耐薬品性があるフィルターです。 成型品・構成部材にPPを採用し、高いコストパフォーマンスを実現。 電子分野のほとんどのケミカル品と、有機溶剤のろ過に適しています。 「LPFシリーズ」では疎水性PTFE膜を使用し、「LHPFシリーズ」では 親水性PTFE膜を使用しております。 【特長】 ■PTFE膜を使用している ■幅広い流体に対して耐薬品性がある ■成型品・構成部材にPPを採用 ■高いコストパフォーマンスを実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
孔隙が均一！アウトケージあり/なしを選択することが可能です
『PSSCシリーズ』は、金属網を使用したプリーツ構造の製品です。 ろ過面積が広く、耐熱性、耐圧性がよく、孔隙が均一。 アウトケージあり/なしが選択可能です。また、洗浄方法は超音波洗浄・ 高圧逆洗浄・高温燃焼・溶剤浸漬などです。 【特長】 ■金属網を使用 ■プリーツ構造 ■ろ過面積が広い ■耐熱性、耐圧性がよい ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低いメンブレンフィルター！
『LPFPEシリーズ』は、ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部材に HDPEを使用しており、有機溶剤に優れた耐薬品性を持つフィルターです。 接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低く、 フォトレジスト・レジスト原料・現像液・エッチング液など、 高純度薬液のろ過に適しています。 特にレジスト中のゲル状異物を効果的にろ過できます。 【特長】 ■ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部材にHDPEを使用 ■有機溶剤に優れた耐薬品性を持つ ■高純度薬液のろ過に適している ■特にレジスト中のゲル状異物を効果的にろ過できる ■全品出荷前に完全性試験を行う ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
用途に応じた幅広い孔径（1nm相当の微細孔径も）と清浄度を有するポリエチレンフィルタ
Cobetter Photopexシリーズは、最先端1nm相当から5μｍ相当まで幅広い孔径を有する高Retentionのフィルタであり、半導体製造プロセスのLithography工程を初めとする厳しい要求にMeetする清浄度を有します。 この高い清浄度のため、高いShedding性能を示し、フィルタからの抽出を低減しております。 また、用途に応じて膜面積も選択することが可能であります。
金属汚染のリスク低減に！「薬液の品質に影響が…」「強アルカリ水溶液や酸性溶液からの金属除去を行いたい」等でお困りの方必見です。
半導体製造プロセスには様々なガス、薬液が使用されますが、これらはサプライチェーンでの輸送や製造中に使用される供給システムや容器への接触によって、常に原料や部材からの金属汚染のリスクにさらされ、半導体製造プロセスの工程の不安定化や歩留まり低減を引き起こします。 Cobetterでは、新規機能膜の開発やフィルタ構造の最適化により、困難とされてきた強アルカリ水溶液や酸性溶液からの金属除去が高効率で達成可能になるIonGardシリーズやリソグラフィ工程に使用される薬液に適したNylonpolarやMGS2Mシリーズ、またガス向けに開発されたGasPuriadv等のラインナップがあり、高効率で高寿命の金属除去を行えます。 【金属除去ラインナップ】 ■IonGardシリーズ ■Nylonpolar/MGS2Mシリーズ ■GasPuriadv また、これら機能膜をベースに組み合わせることにより、さらに様々なニーズに対応可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【脱メタル】フォトケミカルの安定性に配慮！様々な要求レベルの金属低減を実現！キレートタイプや非イオン交換型Purifierを追加
イオン交換型Purifierにおける薬液精製では酸の発生によるリスクが懸念として残っていました。これらは化学増幅型レジストの品質を劣化させるリスクのある問題点です。 第1弾として液-液交換による金属除去メカニズムを持つNylon基膜に官能基を修飾したNylonpolarを発表しましたが、第二弾としてキレート構造による金属除去とイオン交換による発生した酸を即座に除去する機構を持つ金属除去Purifierを開発、上梓しました。 Cobetterでは、メタル除去に関する幅広いソリューションをユーザー様に提供すべく、新たな視点での金属除去機構を兼ね備えたPurifierを引き続き開発していきます。 メタル低減がうまく達成できない、イオン交換による酸発生の悪影響で薬液安定性に対する懸念が払拭できないなど、薬液精製に新しいソリューションを適用されたい方は必見です。 全ての金属に万能な金属除去性能を発揮するPurifierを探すことは至難の業ですが、ソリューションの引き出しを多く持っておくことを強く推奨いたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
