用途に応じた幅広い孔径（1nm相当の微細孔径も）と清浄度を有するポリエチレンフィルタ
Cobetter Photopexシリーズは、最先端1nm相当から5μｍ相当まで幅広い孔径を有する高Retentionのフィルタであり、半導体製造プロセスのLithography工程を初めとする厳しい要求にMeetする清浄度を有します。 この高い清浄度のため、高いShedding性能を示し、フィルタからの抽出を低減しております。 また、用途に応じて膜面積も選択することが可能であります。
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基本情報
詳細は弊社まで問い合わせください。 各フィルタは各種カプセルやカートリッジで供給可能。 多くの既存品とは互換性あります。 各種アプリケーションに合わせてご提案できます。
価格情報
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納期
用途／実績例
主に半導体デバイス製造用途 フォトレジスト製造濾過 有機溶剤濾過 その他幅広いリソグラフィ薬液濾過 ウエハ洗浄液濾過
企業情報
Cobetterは、各種精密濾過膜、ナノファイバー、限外濾過膜の研究開発により、世界中の半導体集積回路製造およびバイオ製薬産業に革新的な濾過・精製ソリューションを提供する世界最先端の新規技術を有する会社です。 中国は浙江省杭州に本社を置き、中国上海、日本、韓国、台湾、シンガポールの5箇所に子会社を置き、106カ国にわたる28000社以上の顧客にサービスを提供しております。日本コベッタは2019年2月に設立された小会社の一つであります。 現在、従業員4000人以上でその1000人以上はエンジニアが占め、現在十数種類以上の革新的濾過材を独自に開発し、300件以上の特許技術を所有しております。また、濾過材料の開発に加え、多様な用途に適したフィルタパッケージの開発、シングルユースバック(2D/3D)、クリーンドラムなど流体処理製品の生産からSUSハウジング、ろ過システムの設計・製造・検証まで一貫した濾過・分離産業チェーンを備えています。
