熱式・UV式ナノインプリント装置 X-300
本格的なナノインプリント技術開発に最適なX-300です。6インチφ、熱・UVどちらにも対応し、高い再現性が特徴です。
Ｒ＆Ｄからパイロット生産まで対応。すべてのステージで、高品質、低コスト、高い設備生産性を追及しました。 本格的な技術開発に最適なナノインプリント装置Ｘ-300です。 ■□■特徴■□■ ■加工方式：熱式、ＵＶ式 ■加工サイズ：口100mm（熱式φ150mm） ■変位の最小分解能：50nm ■加圧力：常用最大：50kN ■金型平行度調整機構：標準搭載 ■レジスト加工 ・残膜5nm以下でコントロールが可能 ・モールド技術開発により15万ショット耐久性を確認 ■フィルム加工 ・実用化ラインによる製品製造（細胞培養プレート） ・ナノからミクロンまで様々なパターン加工が可能 ■SCIVAX社では、フィルム加工及びレジストによる基板加工への各種ご提案を行っております。 LED、各種光学素子（光学フィルム）、各種電子デバイスに関しまして、 用途に応じた量産プロセスのご提案をさせて頂きます。 その他機能や詳細については、SCIVAX（サイヴァクス）微細加工事業本部（電話：044-599-5051、メール：nil-contact@scivax.com）までお問合せください。
- 企業：SCIVAX株式会社
- 価格：1000万円 ~ 5000万円
