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各種研究開発用途から真空装置のプロセス管理まであらゆるニーズに対応【アルバック／ULVAC】
革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVACの新型残留ガス分析計Qulee シリーズのハイエンドモデル機“Qulee HGM”です。 2.5 × 10-6A/Pa（ファラデーカップ）という高感度を実現、各種研究開発用途から真空装置のプロセス管理まであらゆるニーズに対応いたします。 【仕様】 ○電源電圧 DC24V±10% 50W ○質量（センサユニット/分析管） 2.4kg/0.81kg ○使用温度範囲 10 ～ 40℃ ○使用湿度範囲 15 ～ 80%（ただし結露無きこと） ○IP保護等級 IP30（センサユニット） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
真空蒸着装置や各種真空炉の装置管理に最適です。【アルバック／ULVAC】
革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVACの新型残留ガス分析計です。 各種生産ラインの設備技術の方々の声を形にしたプロセスモニタの新スタンダードの登場です。 真空蒸着装置や各種真空炉の装置管理に最適です。 【特徴】 ○表示部一体型の設計・・・パソコンレスでも測定可能 ○簡単操作 −One Click 機能・・・だれにでも簡単。複雑な操作は不要 ○リークテスト機能の充実 ○全圧測定が可能 ○Qulee QCSソフトウエアが標準搭載 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
エッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付プロセスモニタ【アルバック／ULVAC】
Qulee RGM-202/RGM-302は、Qulee シリーズのエッチング、CVD 等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。 【仕様】 ○質量 排気系：57 kg ／制御系：38 kg ○電源電圧 AC100V 15A ○圧縮空気 Dry N2 : 0.4 ～ 0.7MPa（φ6ワンタッチ継手） ○One Click機能 あり／ He/H2O/N2/O2/Any gas ○PCインターフェース RS-232C/485 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
さまざまなプラズマプロセスの状況をリアルタイムに監視することができます。【アルバック／ULVAC】
光学式プロセスモニタOptiusは、プラズマの発光スペクトルを測定することで、さまざまなプラズマプロセスの状況をリアルタイムに監視することができます。 反応性スパッタリングでのMFC制御やエッチングのエンドポイント検出などに最適です。 【仕様】 ○質量 本体ユニット（TSC）： 4.9kg 拡張ユニット（ESC 1ch）： 1.3kg ○電源 AC100～240V（50/60Hz） ○消費電力 100W（5ch使用時） ○使用環境 温度：10 ～ 40°C 湿度：15 ～ 80％ RH（結露無きこと） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
高圧下での高精度、高分解能を、革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現【アルバック／ULVAC】
Qulee CGMシリーズは、高圧下（1Pa 以下）での高精度、高分解能を、革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVAC の新型残留ガス分析計／プロセスガスモニタです。各種生産ラインの設備技術の方々の声を形にしたプロセスモニタの新スタンダードの登場です。スパッタリング装置のプロセス管理（品質向上、歩留まり向上）に最適です。 【仕様】 ○質量分離方式 四重極型質量分析計 ○質量数範囲 1～50 amu ○分解能 M/△M=1M（10% P.H.） ○最大使用圧力 2Pa 2Pa（FC） 1×10－2Pa（SEM） ○リニアリティ 1Pa 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
