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特許取得の調合方法で当社従来比15％以上のコストダウンを実現！燃料電池・二次電池の触媒スラリーの供給用途等に応用も可能！
『連続式スラリー供給装置 P85』は、半導体のウエハー研磨工程で加工時に塗布されるスラリーを供給する装置です。 冷凍機とヒーターの低容量化で、装置容積は当社従来比61％低減して供給流量も増大。 また、原液補給から供給可能までの所要時間を当社従来比で52分⇒22分に大幅短縮しました。 【特長】 ■当社独自の調合方式でスラリーと純水を調合＜特許取得済＞ →ポンプが不要となり、当社従来比１５％以上のコストダウンを実現 ■当社独自の加熱方式によりスラリーを加熱＜特許取得済＞ →高効率、ハイレスポンスの加熱を実現 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
酸系2薬液、アルカリ系1薬液の原液コンテナを収納しＮ２による加圧圧送により原液を供給するための装置です。
ＣＭＰ装置の原液供給に使用されます。 【特長】 ■ＰＴＦＥ製バルブを使用 ■排気用ダンパーを内蔵 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
ドライソルベントＨＳ供給
本装置は供試品の特性試験のためドライソルベントＨＳを一定圧力､一定温度で安定的に供給し循環使用するためのものである。 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
ウエハ研磨用
スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です。 【特徴】 ○タンク容量：125L アイボリー塩ビ製 ○ダイアフラムポンプ：10リットル毎分 ○供給エア：85リットル毎分 ○電源容量：AC100V 5A
プロセス装置に連続で薬液を供給
本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。
本装置はCMP装置に連続してスラリー液を供給するためのもので、2種2系統を供給する機能を有する。
本装置はスラリー原液を希釈し研磨装置にスラリーを供給し、送液温度とpH値を制御(オプション機能)するとともに、スラリー液を連続的に供給するための調合タンクと供給タンクを内蔵しています。 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
