プロセス装置に連続で薬液を供給
本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。
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「きっと、未来にいるものを。」をテーマとして、半導体製造装置周辺機器の 設計、製作を主体にお客様のニーズに対応した製品開発を行っています。 私たちの保有する技術がさまざまな分野で製品化され、お客様に役立てればと 思っております。研究開発や試作などお客様のアイデアをもとに製品化することに 社員全員が情熱を持って取り組む会社です。 心より皆様方のお問い合わせをお待ちしております。