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物質の酸化や還元反応が優先可能！従来方法では不可能であった物質の分解や合成ができます
ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、 強度等の特長を保持したまま様々な用途に使用できます。 電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が優先 できるため、従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能。 また、当社では、ダイヤモンド膜成膜時のプロセス条件や前処理を 最適化することで、オゾン水の生成に好適な導電性ダイヤモンド電極を 提供しています。 【特長】 ■物質の酸化や還元反応が優先できる ■従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。
一般的にナノレベルの成膜を行うことが多い薄膜ですが、弊社では厚膜のご依頼も多くございます。 1ミクロンから数ミクロン、ご案件によっては10ミクロン以上のご相談もいただきます。 もちろん、どのような基材に何の膜をつけるのかによって変わってまいりますが、まずはお気軽にご相談ください★（もちろん薄い膜も得意です） 東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置まで豊富なラインナップと、35年以上の確かな実績をもとに、お客様のご要望に柔軟にお応えします！
基板や膜の素材(種類)、厚さをご要望に合わせて成膜可能！透過率８０％以上と高い性能のFTO透明導電膜 ※持ち込み受託テスト可
液晶・電子部品・太陽電池に使われるガラス基板でうまく電気を流したい、 ガラス基板を発熱させてヒーターとして使いたいなどのご要望ございませんか？ ＳＰＤ研究所なら、シート抵抗と膜厚を要望に合わせた数値に成膜可能！透過率も８０％以上と高い高性能のガラス基板を受託で成膜できます。 ※自社開発した成膜装置を使った持ち込みテスト可能。大手電機メーカーや大手化学メーカーなどの多数実績有り！ 【こんなご要望ございませんか？】 ■薄いガラス0.2ｍｍから2.5ｍｍまでの幅広い板厚で実験したい ■ガラスだけではなく、メタル（SUS/アルミなどの金属基板）基板にも成膜したい ■特定のパターンニングした箇所でかつ、スポット的に成膜したい ■膜の種類を変えて試してみたい ※例：ＦＴＯ、ＩＴＯ、Ｔ:O²、ＡＴＯ、ＡＺＯ、ＣuＩ²、ＰＴＯ…など SPD研究所では、自社開発で成膜装置を製造しているからこそ、ご要望に沿った成膜を実現できます。お気軽にお問い合わせください。 ※ガラス、金属、セラミック等の薄膜コーティングなどの情報はPDFダウンロードいただくか、お問い合わせ下さい。
