グラフェンCVD成膜装置
炉のスライド移動による急冷機構を搭載
グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能
- 企業：株式会社マイクロフェーズ
- 価格：500万円 ~ 1000万円
成膜装置(cvd) - 企業4社の製品一覧
製品一覧
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DLC（ダイヤモンド状炭素）成膜装置
医療用途・光学部品に！イニシャル、ランニングコスト低減ができるプラズマCVD装置
『ダイヤモンドライクカーボンの成膜装置』は、熱陰極PIG(ペニング イオンゲージ放電形式）プラズマCVD装置です。 低温かつ高真空での処理を可能とし､硬度と平滑性に優れた DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜の形成を実現。 他方式に比べ基板に入射するイオンの量とイオンのエネルギーをそれぞれ 独立して制御できる為、極めて広範囲な膜質の制御が可能です。 また、東製株式会社では、超硬・ステンレス･工具鋼などへのダイヤモンド状 炭素膜の優れた特長を広くご活用いただける表面処理加工も行っております。 【特長】 ■低摩擦係数 ■対摩耗性 ■低攻撃性 ■非溶着性 ■絶縁性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：東製株式会社
- 価格：応相談
成膜装置『Corial 200 Series』
用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成膜装置
当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。 共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE ICP ICP+RIE ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm 100mm 150mm 200mmです。 【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE ICP ICP+RIE ICP-CVD又はPECVD装置 ■研究開発向け ■ウエハサイズは50mm 100mm 150mm 200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF
ホットフィラメント（ホットワイヤー）を搭載したコンパクトな卓上型CVD表面処理装置です。
試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種（ラジカル）が試料表面に堆積して膜を形成します。
- 企業：株式会社マイクロフェーズ
- 価格：応相談
プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』
パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能
『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition：原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃～500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min～500nm/minとなっております。 【仕様】 ■プロセス温度：80℃～500℃ ■ウエハサイズ：150mm、200mm ■成膜速度：0.1nm/min～500nm/min ■アスペクト比 ・20：1 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
卓上CNT／グラフェン成膜装置
長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型CVD装置です。
有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。
- 企業：株式会社マイクロフェーズ
- 価格：100万円 ~ 500万円
イオンビーム エッチング・成膜装置『QuaZar』
総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実現
『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、 プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。 当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの 既存のシステムに設置する事も可能。 世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を 2倍以上に伸ばすことに成功しております。 【特長】 ■均一性<2% 3σ(200mmウエハ)、スキャニングモーションを 取り入れることにより<0.6% 3σも達成可 ■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、 Dual PBNは、他社の既存装置でも搭載可能 ■当社のPVD、CVD等とのクラスター可が可能 ■150mm、200mm ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』
均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置
AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。 CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、地球環境に優しい成膜技術です。 【特長】 ■高絶縁膜特性 ■多層膜 ■緻密・平坦膜 ■低ダメージ ■長期安定稼働 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：JSWアフティ株式会社
- 価格：応相談
卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』
教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システム
『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな 卓上タイプエッチング・成膜装置です。 設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の 導入をご検討されている方にお勧め。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■装置最大サイズ 80cmx80cmx80cm(高さ） ■タッチパネルで簡単操作 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
