均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置
AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。 CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、地球環境に優しい成膜技術です。 【特長】 ■高絶縁膜特性 ■多層膜 ■緻密・平坦膜 ■低ダメージ ■長期安定稼働 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【真空排気系仕様】 ■到達圧力 プロセスモジュール: < 3×10-5Pa トランスファー室: < 3×10-4Pa ロードロック室: < 3×10-4Pa ■真空排気系 プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/sec ドライポンプ: 600L/min トランスファー室: TMP 820L/sec ドライポンプ: 500L/min ロードロック室: TMP 350L/sec ドライポンプ: 250L/min ■ロードロック室 手動扉: 1式 カセットエレベータ機構: 1式 試料検出機構：1式 ■トランスファー室 真空搬送ロボット：1式 試料検出機構：1式 フェイスダウン搬送方式 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
JSWアフティ株式会社は、創業以来、NTTグループにてECRプラズマ成膜技術をベースとして発展して参りました。2007年9月より三井造船グループとしてスタート、グループ各社が展開していた半導体およびフラットパネル製造装置事業が弊社に統合されました。2014年4月より日本製鋼所のグループとして新たにスタート、開発から製造販売、アフターサービスまでを一貫して行い、より一層お客様の価値創造に貢献します。これまでに開発・蓄積した技術資源の潜在能力を開花させるとともに、その改良や新しい技術の開発にも注力し、これらを通してお客様・私たち・社会の豊かな未来の実現に向け努力して参ります。