更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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2段式横型カンタル炉
【仕様】 上段炉(大気中) ヒーター３分割式(３回路)カンタル炉 ２台 均熱帯 φ50×200L 1000℃±2℃ max Temp 1200℃ 炉芯管 アルミナ管 60φ×55φ×1000L 下段炉(真空中)Ｖａｃ ×10-4Pa 仕様は上段と同等、但し試料出入れ室(ＳＵＳ) 炉芯管支持室 60φシール口(２ヶ所)水冷式 真空排気系(ＲＰ(160L／min)、ＤＰ(ＤＰＦ−３Ｚ))バルブ他 透明石英管 60φ×55φ×1000L
発電効率を測定する「燃料電池加熱試験装置」や「固体内イオン移動装置」などをご用意！
当社が取り扱う『管状電気炉』をご紹介します。 「燃料電池加熱試験装置」は、炉体、高真空排気系付き石英炉心管・ガス系・ 電気計測系により構成。試料を常用1000℃で加熱し、H2.O2ガス反応により 発電効率を測定します。 他に、「固体内イオン移動装置」や「縦型電気雰囲気炉」などもございます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■燃料電池加熱試験装置 ■固体内イオン移動装置 ■縦型電気雰囲気炉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
常用/最高温度：2000℃/2200℃！縦型グラファイト炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業丸祥電器社が取り扱う 『縦型グラファイト炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉芯管材質は、使用温度・雰囲気によりSUS、石英、 アルミナ等のセラミック、カーボン等に対応可能 ■温度勾配仕様、高真空仕様、酸素濃度制御、露点制御、プ ログラム加圧制御等の高精度な雰囲気制御などの オプション仕様もラインナップ ■炉内寸法：Ф60mm×H2000mm (炉芯管：グラファイトチューブ) ■常用/最高温度：2000℃/2200℃ ■ヒーター：グラファイトヒーター、縦型3ゾーン制御 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
温度勾配600℃/800mm！横型管状炉【温度勾配炉】
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『横型管状炉【温度勾配炉】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉芯管材質は、使用温度・雰囲気によりSUS、石英、アルミナ等の セラミック、カーボン等に対応可能 ■温度勾配仕様、高真空仕様、酸素濃度制御、露点制御、 プログラム加圧制御等の高精度な雰囲気制御などの オプション仕様もラインナップ ■炉内寸法：Ф42mm×L1000mm (炉芯管：アルミナチューブ) ■常用最高温度：1600℃ ■ヒーター：SiCヒーター、ニケイ化モリブデンヒーター 横型5ゾーン制御、温度勾配600℃/800mm ■詳細は、お問い合わせ下さい。
PBNるつぼと石英アンプルは再使用が可能！炉体移動式のVGF炉をご紹介します
『MAT-150VGFHQ』は、炉体移動式のVGF炉で、かつヒ素圧1atm中で 育成するので容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが出来る 4インチ用縦型VGF製造炉です。 育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 また、PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが出来る ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
多彩なラインナップ！横型管状炉【横型高温マルチ雰囲気管状炉】
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業丸祥電器社が取り扱う 『横型高温マルチ雰囲気管状炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉芯管材質は、使用温度・雰囲気によりSUS、石英、 アルミナ等のセラミック、カーボン等に対応可能 ■温度勾配仕様、高真空仕様、酸素濃度制御、露点制御、プ ログラム加圧制御等の高精度な雰囲気制御などの オプション仕様もラインナップ ■炉内寸法：Ф90mm×L780mm (炉芯管：アルミナチューブ) ■常用/最高温度：1600℃/1650℃ ■ヒーター：ニケイ化モリブデンヒーター 横型3ゾーン制御、真空置換型マルチ雰囲気対応 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
驚異の低価格！高温タイプで手軽に1,200℃まで昇温可能な卓上型高温管状雰囲気電気炉
手軽に1,200℃まで昇温可能！前面より試料出し入れが可能な高温タイプの卓上型高温管状雰囲気電気炉です。高純度石英管を選択使用する事によってクリーンな環境で1,200℃の高温焼成(溶融)が実現！ 高精度16×16プログラム・コントローラー レベルPID制御仕様！
テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。 ◉ Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ ◉ Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃ ◉ MiniLab-WCF 超高温ウエハー焼成炉 Max2000℃ その他、特注で研究開発用高温炉を設計製作致します。 他
横型管状炉【酸素濃度制御式横型管状炉】
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『横型管状炉【酸素濃度制御式横型管状炉】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■使用温度・雰囲気によりSUS、石英、アルミナ等のセラミック、 カーボン等に対応可能 ■温度勾配仕様、高真空仕様、酸素濃度制御、露点制御、 プログラム加圧制御等の高精度な雰囲気制御などの オプション仕様もラインナップ ■炉内寸法：Ф60mm×L430mm (炉芯管：セラミックチューブ) ■常用/最高温度：900℃/1000℃ ■ヒーター：当社製モジュールヒーター 横型3ゾーン制御、プログラム酸素濃度制御 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
安心安全設計・操作性向上・異常状態表示機能などを標準装備。~300℃までのNBKシリーズ・~400℃までのNBHシリーズ。
安心安全設計・操作性向上・異常状態表示機能などを標準装備。 過昇防止・インターロック機能を採用。 運転状態表示・異常状態表示を標準装備。 循環方式を採用のため、むらのない処理・仕上げが可能です。 熱源に石英ガラス管ヒーターを採用。透過による輻射熱と吸湿性の良さが特長。さらにむらのない効果が見込めます。 オプション：記録計・積層表示灯・台車ユニット・棚アミなど。 ユーザー様に合わせたカスタマイズ対応可能。 寸法・塗装色・ヒーター断線警報器・ベルト破断検知など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高温下での様々な雰囲気焼成テストに最適
管状炉と言えば「横型管状炉」が一般的ですが、 ワークのセット、取出しがしづらい、上下方向や雰囲気による 焼成ムラが起きるなどの経験から、丸祥電器の「縦型管状炉」へ 公的研究機関、大学、民間企業の研究者からの問い合わせが増えております。 また、規格品意外のユーザー仕様にもお応えしております。
先端材料の研究開発などに！ご使用に応じた設計製作も可能ですので、何なりとご相談下さい
株式会社ヤマトでは『真空装置』に関連する製品を取り扱っております。 1100℃と高温まで加熱できる能力を持ち、プログラム温度調節計にて 温度ステップを設けることができる「高温管状炉」をはじめ、気密性の高い ステンレス製の容器にグローブを取付け、空気中で扱えない試料をグローブを 使用して取扱い、作業することができる「ピュアボックス」を各種ご用意。 また、ご使用に応じた設計製作も可能ですので、何なりとご相談下さい。 【ラインアップ】 ■高温管状炉 ■ピュアボックス(グローブボックス) ■サウンド・ピュアボックス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能！オプションにて第三のガスも流せます
『MAT-200KA』は、4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発された 電気炉です。 ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能。 均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御されます。 また、オプションにて第三のガスを流すことができます。 【特長】 ■4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発 ■均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
卓上に置いて即実験！小型真空炉として使用可能！ガス系等及び真空装置を接続すればCVD装置の完成
【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すればCVD装置の完成 ・9パターン×9ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて16×16プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・MAX1200℃(R：t/c使用時) ・電源はA.C100V 1.3Kw 省エネタイプ ・標準でブルドン真空計付き
ヒータの異常加熱を防止！過昇温度防止機能を搭載した焙焼炉
『焙焼炉』は、ステンレス製チャンバーの内部に抵抗加熱ヒータ及び断熱材を 設置し、試料を大気中にて加熱し、焙焼を行う装置です。 プログラムタイプの温度調節器を採用し、19個のプログラム（1プログラム/ 19ステップ）を保持、設定が可能。 石英管にヒータを入れることにより、パーティクルコンタミを発生させません。 【特長】 ■過昇温度防止機能で、ヒータの異常加熱を防止 ■無停電電源（制御系のみ）により、瞬時に停電を対策 ■ペーパーレス記録針（8打点）を設け、炉内の温度データを取り込み可能 ■プログラムタイプの温度調節器を採用 ■19個のプログラム（1プログラム/19ステップ）を保持、設定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験
炉内全域にむらのない熱風がゆき渡る循環方式設計。タイマーによる無人処理も可能
『ベーキング炉』の循環方式は炉内全域にむらのない熱風がゆき渡るよう 設計されています。 ベーキング特有の高温、長時間処理に応じた使い易さにするために 工場運搬用2台、処理用台車（耐熱トロッコ付）2台を使用。※別売り 自動温度調整により一般乾燥、焼付等にも兼用できます。 また、タイマーによる退社後の無人使用も可能な設計になっております。 【特長】 ■台車利用で高温、長時間処理に応じた使い易さを実現 ■炉内全域に熱風がゆき渡る循環方式設計 ■自動温度調整 ■タイマーによる無人使用も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様！重量は約4Kg！1200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です
こんなユーザーに朗報！！ ｢精度高い実験がしたい｣ ｢ガスのフローを一方向に綺麗に流し続けたい｣ ｢昇温速度を更に早くしたい｣ ｢1.5kwコンセントで2台使用したい｣ ｢高価な希少性ガスを使用したい為、出来るだけ極小容積のチャンバーにて雰囲気加熱したい｣ 手のひらサイズ電気炉シリーズ第4弾！ 両側マニホールドに最小外径15Φ(内径12Φ)高純度透明石英管を装着！ 長3封筒（定形郵便規格）サイズで重量は約4Kg！ A.C100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様！ MAX1,200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です！
1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！
『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃（最大1150℃） まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃（最大1150℃）まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空冷の為、冷却水循環装置が不要 ■所要電力：AC100V 2kW ※オプションによりAC200V ■設置スペースはW540×D420×H568mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
Max1000℃！石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能です
株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系 RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉
株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です
『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去！母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※さらに詳しい情報についてはダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
