更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
高温キャビティ黒体炉
当社が取扱うCI SYSTEMS社のキャビティ黒体炉は、30年以上、宇宙防衛産業から民生産業用の赤外線基準光源として世界中の公的研究所、企業の研究所、生産ラインで選ばれています。 NIST準拠で高精度と高安定性を誇る信頼できる製品です。1000℃（オプションで1200℃）の高温黒体、口径φ1インチ、0.99の高放射率（0.999もあり）
低温域・広面積のアプリケーションに
黒体面に放射率の高い塗料を塗り、電子冷却素子や抵抗加熱ヒータを使い黒体面温度をコントロール。口径2インチ～20インチのモデルを揃え、広温度範囲、高均一性、高放射率など豊富なオプションをご用意しています。差温度黒体炉は、ターゲットと黒体面の温度差を制御しますので、NETD、MRTDなど赤外線カメラの試験に最適です。コリメータと組合わせて使用した場合、コリメータのターゲットホイールやステージなどは黒体炉のコントローラから制御可能です。
アルミ連続溶解保持炉 プレザーブ炉
炉体構造がより強化され、優れた燃焼制御を発揮！ 死角の無い構造でメンテナンスが容易なアルミ連続溶解保持炉 【特徴】 ○保持室の燃焼スペースが広く、輻射熱が大きい ○溶湯保持深さが浅く広い為、熱の吸収が良い ○特殊耐火物の選定により、湯離れが良い ○溶解室床部には、特殊高アルミナ質煉瓦を使用し、高い強度・耐摩耗性を実現 ○保持室の熱気は湯路から溶解室を通り 投入口から排出される為、材料予熱への利用が可能 ○冷材が溶湯に直接入らない構造の為、溶湯温度の降下が少ない ○溶湯温度及び炉内雰囲気温度制御の為、酸化物発生温度域以下で安定 ○多量の赤外線を含む輝炎バーナーの採用により アルミに対する熱吸収が大きく、炉内雰囲気温度を低く設定する事が可能 ハードスポットの原因ともなる酸化物の発生を低減 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、クリーン加熱が簡単にできます。
・円筒上真空チャンバー外周には、８個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。
昇温時間が速く小型・軽量！卓上とハンディの2通りの使い方ができます
創業40年以上、赤外線計測機器専門メーカーのジャパンセンサーが開発した小型黒体炉 BBZ5シリーズは、従来品と比較して昇温時間が非常に速く安定しており、さらに小型・軽量を実現した放射温度計の校正用の小型黒体炉です。 波長依存性の少ない二重円錐方式で、卓上とハンディの2通りの使い方が可能。 設定した値が、黒体炉の安定領域に達した時にアラーム音が発生し、 その後作業を行うことで時間を無駄にすることがありません。 内蔵タイマで電源ONとOFFができ、黒体炉が高温の場合、停電などによる電源遮断時にも冷却ファンが停止しないよう、バッテリを内蔵しています。 【特長】 ■校正する放射温度計の測定波長を選ばず使用可能 ■設定操作性の向上 ■昇温時間の短縮により作業時間の短縮や省エネにも役立つ ■内蔵バッテリー搭載で急な電源遮断時にも冷却ファンが回り続ける ■必要に応じて温度帯を選べる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
近赤外線ハロゲンランプを使用し高効率な乾燥機を設計！内側から乾燥や効果を促進することで未乾燥・未硬化を低減！省エネ・長寿命です！
近赤外線ハロゲンランプは、 対象物を内側から乾燥や硬化を促進させるので未乾燥・未硬化などの不具合発生を低減します。 また電源ＯＮで瞬時に要求温度に達しますので無駄なく短時間で処理を終えることが可能となります。 よって省エネルギーによるコスト削減や環境エコにも繋がります。 目的、用途、被乾燥物に合わせた乾燥・加熱性能を提供し、様々な材質、目的に合わせ設計いたします。 ■特徴 ・レスポンスの速さ ・ランプ式放射加熱で雰囲気温度に影響されない質の高い赤外線を放射 ・均一な照射で焼きムラ・乾燥ムラを低減 ・コンタミフリーなクリーン加熱で、大気中・真空中など加熱雰囲気不問 ・約３０００～５０００時間（使用環境や出力により変わります）の長寿命設計 ※詳細はPDFダウンロードいただくかお問合せ下さい。
品質の向上！省力化！一般的な遠赤外線加熱炉の特徴についてご紹介
有限会社AMKは、工業用遠赤外線ヒーターと加熱装置・乾燥装置を取り扱っている会社です。 遠赤外線ヒーターを配置した面に平行に被加熱物を連続的に搬送させ加熱することが一般的な遠赤外線加熱炉であります。 これにより加熱処理時間の短縮、品質の向上、工程合理化、省力化ができるのが大きな特徴です。 そのため、熱風炉から連続式遠赤外線炉への転換が進んできたことは知られていることです。 ただし光と同じ作用であることから、陰になる所、立体形状でヒーターからの距離が部位により異なる場合、ファンを併用しても均一加熱は難しいことが多いのです。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ハイレックスヒーターを使用した小型精密テスト炉
熱源にハイレックスヒーターを使用した、高効率の遠赤外線炉です。テスト炉として、温度設定、処理速度、照射距離、昇温カーブなどすべてが可変のオールマイティタイプです。小型であるため、設置場所が自由に選べます。小規模の生産工程への使用も可能です。
遠赤外線コンベア炉！遠赤外線セラミックヒーターを使用した連続方式の加熱炉です。
※その他、ＳＵＳメッシュベルト、ウォーキングビーム搬送、トンネル炉など 製品・用途・処理温度などに合わせたカスタム設計ができます。
遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮
遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮します。 樹脂成形品のアニール処理を画期的に変えるシステムです。 ●処理時間の大幅短縮 遠赤外線の放射加熱及び熱風拡散を併用する事により処理時間を大幅に短縮できます。 従来温風バッチ炉 １〜２時間→ノリタケアニール炉 ３〜５分 ●コンベア式による連続処理 処理時間が短くなる事により、コンパクトな連続炉となります。その為、成形機直結の連続処理にも対応でき、生産効率が上がります。 ●品質向上 応用性に優れた遠赤外線ヒーターと熱風加熱の併用により、均一に加熱する事ができます。さらに、連続処理する事により寸法精度が安定します。 寸法精度：±５/１００ｍｍ→±２/１００ｍｍ
時代が求める、環境に優しいクリーンな性能
「遠赤外線コンベア炉」は、お客様の仕様に合わせて、豊富な経験と独自のノウハウからお客様に最適な熱設計を行います。
タッチパネル操作方式を採用！各種研究開発・試作向けの遠赤外線加熱装置です
『MIGHTY STAR F1200』は、専用に開発されたタッチパネル ソフトウェアにより、作業効率及び管理に優れた環境を実現する 簡易型の遠赤外線加熱炉です。 セラミック溶射された遠赤外線シースヒーターにより、 樹脂フィルムなどの高分子化合物を効率的に加熱。 また、ワークの幅方向の制御にサイドヒーターを配置し 左右ムラを最小限に抑制します。 【特長】 ■ヒーター ・ご希望により近赤外線ヒーター等の組み込みも可能 ■コンベア（チェーン）搬送 ・タッチパネル上で数値制御 ・短い炉長においても加熱時間を常に正確に把握することが可能 ■タッチパネル操作 ・操作項目及び制御項目の変更、追加にもソフトウェア上で柔軟に対応 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
応答性に優れた遠赤外線ヒーターと熱風加熱の併用により、均一に加熱することが可能！
『遠赤外線アニール炉』は、樹脂成形品のアニール処理を画期的に変える システムです。 遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮。 処理時間が短くなる事により、コンパクトな連続炉となり、 成形機直結の連続処理にも対応でき、生産効率が上がります。 【特長】 ■処理時間の大幅短縮 ■コンベア式による連続処理 ■品質向上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
遠赤外線コンベア炉 コンパクト遠赤炉 LF-KA2
省スペースで実験室に最適！ 高精度な温度分布を実現した、コンパクト遠赤炉 【特徴】 ○遠赤外線ヒーターの放射加熱と炉内風循環効果により 短時間かつ均一加熱が可能 ○高精度な温度分布(±3℃)を実現 ○従来の38%にコンパクト化 装置サイズ：1220L×524W×1147H(mm) ○処理物寸法：Max. 100W x 30H(mm) ○使用温度範囲：R.T.+15〜250℃ ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
