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照射面形状：インライン照射型！長寿命・低消費電力のUV-LED照射装置
UV-LED照射装置は、ランプに比べ、長寿命・低消費電力であり、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理できることが特徴の装置です。 また、従来のスポットタイプでは不可能な大型照射面の照射を可能にします。 株式会社クォークテクノロジーでは面照射型、インライン照射型、線照射型の3タイプのUV-LED照射装置を取り揃えております。 その他にもお客様の用途に合わせてカスタマイズし、ご希望に合った照射装置をご提供できます。 【UV-LED照射装置の特徴】 ○照射ムラが軽減される ○ワークへの温度上昇がなく低温硬化が可能 ○自由度のある照射装置の設計が可能 ○冷却ユニット内蔵による照度の安定化 ○光ファイバなど伝送材料を使わない直接光源 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
従来の水銀ランプよりエネルギーが高い波長の真空紫外光を発生！
株式会社クォークテクノロジーのエキシマ照射装置は、高光子エネルギー 真空紫外光源のエキシマランプによる有機物洗浄や、表面改質に必要な 励起酸素原子を発生させ、半導体製造装置をはじめ各種フィルム表面改質装置 などに利用されています。 準単色光でエネルギー変換効率が良く、他の放電灯のような不要な可視光、 赤外光が比較的少なく、ワークに対して熱によるダメージを与えません。 また、瞬時の点灯点滅ができ、この際エキシマランプにダメージを与えません。 その他、高効率洗浄により、コンベア搬送中の照射も可能です。 エキシマ照射装置は、特長の異なるフラットタイプも取り扱っておりますので、 用途に合わせてお選び下さい。 【特長】 ■準単色光 ■波長172nm ■瞬時点灯点滅 ■コンベア搬送中照射も可能 ■ランプ本数低減、付帯設備不要 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大学・研究・開発に好適！ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます
『QEV Series』は、低価格でカスタム性の高いチューブタイプ エキシマランプです。 バッチ照射用ユニットとスキャン照射用ユニットをご用意。 波長は172nm、分布は±15％となっております。 ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます。 ご用命の際は、当社までお気軽にご相談ください。 【バッチ照射用ユニット 仕様（一部）】 ＜QEV-160＞ ■波長：172nm ■ユーティリティ：N2／冷却水／AC100V ■分布：±15％ ■照射開口：176×176 ■対応ワークサイズ：6inch ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
紫外・可視光透過スペクトルを分光光度計により測定！ゾル－ゲル薄膜の改質についてご紹介
均一な組成をもつコーティング膜を得る方法として有力なゾル－ゲル法は、 ゲル膜からの水分の除去や有機成分の分解には、通常、数百℃の熱処理を 要するため耐熱温度の低いプラスチック上に強固な膜を得るのは難しいです。 そこで、真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、照射に よる熱過程をともなわずに、光子の作用のみで原子の結合を切断できるため、 薄膜の改質にも応用できると考えられます。 当資料では、ゾル－ゲル法により調整した酸化ニッケル薄膜に、実用的な 光源として開発されてきたエキシマランプを用いてVUV光を照射したときの 状態変化について紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空紫外（VUV）光を用いた表面改質技術！改質効果の違いについて検討
高分子は軽量、フレキシブルなため、様々な用途で用いられており、近年 着目される手法に真空紫外（VUV）光を用いた表面改質技術があります。 VUV光は短波長で光子エネルギーが高いため、非熱過程で分子の結合を 切断することが可能。 物理的表面処理として代表的なプラズマ処理等と比べ、低コストかつ表面への ダメージが少なく、表面処理ができるという特長を持ちます。 本研究では、真空紫外光をポリマーに照射し、照射に伴う表面の物理、 化学的変化と、照射中の雰囲気ガスによる改質効果の違いについて検討を 行いました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
未来ストーリーを創造するクォークテクノロジー。
株式会社クォークテクノロジーは最先端の光応用技術を利用した各種産業用設備機器の製造販売を行っております。 真空紫外及びUV-LED光源の開発により、半導体製造技術を始め、液晶、PDPからフィルム、ELなどの新規ディスプレイ、各種電子材料及び電子機器の製造技術に導入させていただいております。 そのほか、医療や社会的課題であります廃棄物・環境対策機器の需要に対しても研究開発を計画しております。 あらゆる物質は原子、核子そして「クォーク」から成り立っております。 私たちクォークテクノロジーは、光を研究し産業応用技術へのチャレンジを続けてまいります。 【事業内容】 ○紫外線照射装置製造販売 ○UV-LED照射装置製造販売 ○半導体製造装置製造販売 ○その他、各種石英、セラミック商品取扱 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
低温処理、低電力、長寿命！UV-LED照射装置！
水銀ランプやメタルはライドランプなどと比べ、長寿命・低消費電力であり、低温処理が可能です。
エキシマ光で効率よく表面洗浄、改質！
高光子エネルギー真空紫外光源のエキシマランプによって有機物洗浄、表面改質を低温で行うことができます。 フラットタイプは面自体が発光する高出力、高密度高分布モデルです。
照射面形状：面照射型！長寿命・低消費電力のUV-LED照射装置
UV-LED照射装置は、ランプに比べ、長寿命・低消費電力であり、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理できることが特徴の装置です。 また、従来のスポットタイプでは不可能な大型照射面の照射を可能にします。 株式会社クォークテクノロジーでは面照射型、インライン照射型、線照射型の3タイプのUV-LED照射装置を取り揃えております。 その他にもお客様の用途に合わせてカスタマイズし、ご希望に合った照射装置をご提供できます。 【UV-LED照射装置の特徴】 ○照射ムラが軽減される ○ワークへの温度上昇がなく低温硬化が可能 ○自由度のある照射装置の設計が可能 ○冷却ユニット内蔵による照度の安定化 ○光ファイバなど伝送材料を使わない直接光源 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
照射面形状：線照射型！長寿命・低消費電力のUV-LED照射装置
UV-LED照射装置は、ランプに比べ、長寿命・低消費電力であり、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理できることが特徴の装置です。 また、従来のスポットタイプでは不可能な大型照射面の照射を可能にします。 株式会社クォークテクノロジーでは面照射型、インライン照射型、線照射型の3タイプのUV-LED照射装置を取り揃えております。 その他にもお客様の用途に合わせてカスタマイズし、ご希望に合った照射装置をご提供できます。 【UV-LED照射装置の特徴】 ○照射ムラが軽減される ○ワークへの温度上昇がなく低温硬化が可能 ○自由度のある照射装置の設計が可能 ○冷却ユニット内蔵による照度の安定化 ○光ファイバなど伝送材料を使わない直接光源 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
光応用技術を利用した各種産業用設備機器を掲載！
当カタログは、主に紫外線照射装置製造販売・露光装置製造販売・その他、 各種石英、セラミック商品の取扱いを行う株式会社クォークテクノロジーの 製品カタログです。 半導体製造装置などの各種フィルム表面改質装置などに利用される「エキシマ 照射装置」をはじめ、「UV-LED照射装置」や各種測定器を掲載しています。 お客様の用途に応じて様々な製品をお選び頂けます。 【掲載内容】 ■会社概要 ■UVスペクトルと用途 ■技術原理 ■エキシマ光の効果 ■エキシマ照射装置 ■UV-LED照射装置 ■各種測定器 ■製品ラインアップ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大学・研究・開発に好適！高照度一括照射可能なエキシマ照射ユニット
『SPC Series』は、フラットタイプのエキシマUV照射装置です。 照度分布を従来の±15％から±5％まで向上。高照度一括照射可能な エキシマ照射ユニットとなっております。 ウェハ洗浄をはじめ、露光光源やコータ前処理、レジスト改質などに ご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■真空対応可能 ■照度分布を従来の±15％から±5％まで向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高照度・高分布の搬送処理用ユニット！大学・研究・開発でご活用いただけます
当社で取り扱う、エキシマUV照射装置『OVL Series』をご紹介します。 高照度・高分布の搬送処理用ユニット。照度モニター機能を搭載しており、 フィードバック制御が可能です。 ガラス基盤洗浄をはじめ、コーティング前処理や張り合わせ前処理、 ポリマ表面改質にご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■搬送処理に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄膜形成プロセスの低温化に寄与！分解過程と結晶構造の変化について比較検討
耐熱温度の低いプラスチックなどの上に強固で緻密な膜を得るためには、 薄膜形成におけるプロセスの低温化が必要となります。 真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、1光子あたりの エネルギーが、ほとんどの物質における原子の結合エネルギーよりも大きく なります。 また、照射による熱過程をともなわずに光子の作用のみで原子の結合を開裂 できるため、薄膜形成プロセスの低温化に寄与するものと期待できます。 本研究では、工業的に多用されているTiO2について、ゲル膜を熱処理した ときおよび、エキシマランプによるVUV光照射と熱処理を併用したときの 分解過程と結晶構造の変化について比較検討しました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験方法 ■結果と考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
長寿命！低消費電力！ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理が可能！
株式会社クォークテクノロジーのUV-LED照射装置は、ランプに比べ、寿命が 長く、消費電力が低く、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理 できる装置です。 照射ムラが軽減され、冷却ユニット内臓により照度が安定し、ワークへの 温度上昇がなく低温硬化が可能です。 また、自由度のある照射装置の設計が可能で、従来のスポットでは不可能な 大型照射面の照射を可能にします。 【特長】 ■照射ムラが軽減 ■冷却ユニット内臓 ■伝送材料を使わない直接光源 ■低電力、長寿命 ■メンテナンスフリー ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
