更新日： 集計期間:2025年10月15日～2025年11月11日
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産業用途のみならず、論文・基礎研究で必要な結晶材料も迅速に提供致します！
当社では、酸化物、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、合金など、 多岐にわたる単結晶作製技術を有しております。 相図、融点、蒸気圧、偏析などのデータを調べ、結晶作製方法を検討し、 結晶組成範囲、添加物濃度、結晶サイズや結晶方位など、お客様の多様な ご要望を満足できる結晶材料を提供いたします。 【製品ラインアップ】 ■Ce:HR-GAGG Scintillator ■Ce:GFAG Scintillator ■Ce:GAGG Scintillator ■Ce:La-GPS Scintillator ■Eu:Srl 2 Scintillator など ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
大型・高純度の素材から、単結晶を薄板の形で供給します！
当社では、気相合成法を用い、大型で高純度のダイヤモンド単結晶を 製造しています。 種結晶からの分離技術で、板状単結晶の安価、大量生産が可能。 また、複数の単結晶を接続した、25×25mmのモザイク結晶を 製造しております。 【特長】 ■II a型で窒素濃度1～2ppm、(100)面成長の結晶 ■1つの結晶で最大辺10mmまで、厚さは0.01～2.5mmに対応 ■10×10mm結晶を組み合わせ、1インチモザイク結晶も販売 ■長方形・三角形・円形等のご指定形状にレーザー切断 ■研磨は片面、両面共に可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
結晶育成～加工まで自社内で一貫生産。加工歪層のない高品質な結晶基板表面
【エピタキシャル成長に最適】 薄膜成長用酸化物基板は、1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板として、SrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けております。 エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。 弊社は長年の技術蓄積により、結晶育成から加工まで自社内で一貫生産しています。高精度な加工技術により、高品質な結晶基板表面に仕上げて提供を続けております。 標準的な仕様は常に在庫を持つようにしており、ご発注後10日間程度でお届けしております。 ご希望に合わせて面方位、形状、OFF角度などをオーダーメイドすることも行っておりますので、ラインアップにない仕様の製品も取り扱っております。お気軽にお問い合わせください。 ※詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
色素や有害金属等の吸着性が高く、そして、生体親和性にも優れており、幅広い製品の原材料としてご利用いただけます。
地上から採掘される与那国島産化石サンゴ１００％を原料に、独自の技術により製造された世界初のアパタイトです。 「コーラルアパタイトⓇ」は原料である化石サンゴに含まれる豊富なミネラルの中に、歯や骨を構成するカルシウム、リン、マグネシウムなどが含まれているため、一般のアパタイトよりも生体親和性に優れています。 低結晶型の為、糖、タンパク質、脂質、細菌、色素、臭いなどの有機物資、カドミウム、水銀、銅、バラジウムなどの有害金属の吸着する性質を有し、従来の結晶型ヒドロキシアパタイトに比べて、吸着性に優れています。
高純度、高結晶性、高生産性！抗菌用途、グラフェン誘導体の出発原料として、分散液形態で提供致します
『GF10』は、無基板、無触媒で直接合成しました、100nm形状の 数層グラフェンです。 厚みは、1-2nmで、高純度、高結晶性、高生産性を有しています。 抗菌用途、バイオセンサー材料、グラフェン誘導体の出発原料として、 分散液形態で提供致します。 【特長】 ■100nm形状の数層グラフェン ■無基板、無触媒による直接合成法 ■高純度、高結晶性、高生産性 ■分散液形態で提供可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
耐疲労性に極めて優れている結晶性の高いエンジニアリングプラスチック素材
ポリアセタール素材 ポリペンコ（R）アセタールは、アセタールコポリマーおよびホモポリマーをそれぞれ原料とした結晶性の高いエンジニアリングプラスチック素材です。耐疲労性に極めて優れています。性能面およびコスト面でバランスのとれた材料。豊富な品揃え。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
耐有機溶剤性、耐油性、耐グリス性が良好！摺動性と耐摩耗性に優れた結晶性の熱可塑性樹脂
当社が取り扱う、POM素材『TECAFORM』をご紹介します。 切削加工用素材としてPOM樹脂の板と丸棒、チューブを製造。 POMは、機械強度と剛性、摺動性と耐摩耗性に優れた結晶性の熱可塑性樹脂で、 低吸水性のため寸法安定性が高く、切削加工性と強度に優れていることから 非常に幅広い用途で使用されています。 ホモポリマー(POM-H)とコポリマー(POM-C)とでそれぞれ特性に違いが見られ、 POM-Hのほうが結晶性の高さから、密度、硬度、強度が若干高くなっており、 POM-Cは、POM-Hより高い耐薬品性と長期間にわたる熱安定性が特長です。 【特長】 ■高い強度、剛性、靭性 ■低温環境でも優れた衝撃強度 ■低い吸湿性(吸水率0.8%) ■卓越した耐摩耗性と摺動性 ■結晶化度が75～85％と高く、切削加工性が良い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
精密加工用のバイト、エンドミル、ダイス、ドレッサーなどに。低コスト・高品質を追求
当社は、精密加工・難削材加工などで活躍する工具用素材として 『単結晶・多結晶CVDダイヤモンド』をご提供しています。 優れた耐摩耗性により、工具の長寿命化も実現できるほか、 長期にわたって仕上げ加工の寸法精度維持も可能です。 工具の交換頻度や加工時間を削減し、生産合理化に貢献します。 【特長】 ＜単結晶・多結晶CVDダイヤモンド＞ ■独自のストレス緩和法により超低歪を実現 ■結晶方位は（110）に加え、様々な結晶方位での提供が可能 ■レーザーカットにより長方形・円形等、任意の形状で提供可能 ■寸法交差：縦横=＋0.10/－0mm、厚み=＋0.02/－0mm ■表面粗さ（研磨済み）：Ra<50μm ■片面、両面の両方の研磨に対応 ■破壊靭性：8.5MPa ■硬度：80± 18 GPa @300K ■ポアソン比：0.1 ■熱伝導率：>1000 W/mK @300 K ■ヤングモジュール：1054 Gpa ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
遅送り機能を付加！ブリッジマン法結晶育成用としても使用可能なブリッジマン炉
『VEF-1800-BR-VM』は、試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成された ブリッジマン炉です。 真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易かつ安定して 作製することが可能となっております。 さらに、遅送り機能を付加し、回転昇降機能の他にブリッジマン法 結晶育成用としても使用することができます。 【特長】 ■試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成 ■真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易に作製可能 ■遅送り機能を付加し、ブリッジマン法結晶育成用としても使用できる ■設定の容易さや操作性に優れたタッチパネルを採用 ■回転昇降機付縦型電気炉と同様に原料棒の焼結も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
食品製造にかかわる商品開発担当者・研究者の皆様へ！相対甘味度は砂糖の約1/3
おいしい商品をつくるため、もっとしっとり感がほしい すっきりした甘さで素材を活かしたい、離水を抑えたいなど お考えの製品開発ご担当者様、品質管理ご担当者様。 しかし、下記のようなお悩み、ありませんか？ "水分を多くすると、水分活性が上がってしまう"糖質割合が多いと、 甘味が強くなりすぎる"結晶性糖質だと結晶が出やすくなり、多く 配合できない" 『ピュアトース』は、保水効果が高く、低甘味で味質がよく、かつ 非結晶性で老化抑制効果が高い非添加物です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■保湿効果 ■低甘味 ■風味増加 ■老化抑制 ■離水防止 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
素材の特性を最大限に引き出す！確かな技術力で生み出された製品を多数掲載！
ハイキス株式会社は、半導体部品製造 各種機能部品製造を行っている 会社です。 ファインセラミックス・ガラス・結晶素材等を中心に、これまでの 経験に基づいた確かな技術力で様々な製品を作成しております。 お客様の目的・要望に応じた原料の選定と製造方法の選択によって、 素材が持つ優れた特性を最大限に引き出します。 【掲載事例】 ■アルミナセラミックス ■単結晶サファイア ■フロートガラス ■特殊耐熱ガラス ■各種セラミックス素材 など ※加工事例はカタログダウンロードよりご覧ください
マルトシルトレハロースが主成分の着色や褐変が少ない水飴
『ハローデックス』は、でん粉に酵素を作用させて作られた非還元性四糖のマルトシルトレハロースを主成分とした水飴です。 低甘味で温和なキレの良い甘味質で、一般の水飴より加熱による着色や褐変が少なく、矯味・矯臭作用も有しています。 低吸湿性でキャンディのべたつき抑制に利用できます。また、トレハロースの結晶析出、成長を抑制する効果に優れています。 【機能特性】 ■氷菓の溶解速度の調節作用 ■鉄味の改善効果 ■トレハロース結晶析出抑制作用 ■大豆たん白質の加熱臭発生抑制 ■吸湿抑制 ※詳しくはお問い合わせください。
粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能な雰囲気制御一方向凝固炉
『VFK-1800-BR』は、空気中で1800℃までのニ硅化モリブデン発熱体を 用いた高温電気炉に炉芯管及び、坩堝の昇降機構を加えた縦型昇降炉です。 炉芯管及び坩堝の昇降機構により、雰囲気を制御しながら、粉体焼成から 結晶成長（ブリッジマン法）までの多目的な使用が可能です。 プログラムコントローラからのイベント出力により、遅送りモータの駆動の 自動運転、停止ができ、温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に 操作できます。 【特長】 ■粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能 ■遅送りモータの駆動の自動運転、停止が可能 ■温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に操作可能 ■制御温度と炉内温度はPC画面上でモニターできる ■データ取りも簡単に操作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『LTCC（低温焼成基板）用素材』は、高周波帯域に対応した機能性ガラスフリットを使用した誘電体素材です！
TOMATECは、フリットの熔解・粉砕技術を応用した機能性ガラス 又、無機顔料の合成技術を応用した機能性複合酸化物を使用し、 用途に応じた誘電体素材を提供します 特 徴 ・誘電体素材に析出する結晶相をコントロールすることで、 低誘電率、高誘電率、低誘電損失、高強度、高膨張、低膨張 等 用途に応じた特性をもつ誘電体素材を提供致します ・組成の調整、粒度調整 等 カスタム品の試作を承ります ・少量試作(50g)から量産まで、粉末の提供となります
表面酸素濃度を広範囲に制御することができるグラフェン分散液の製造技術です。
従来、グラフェン製造方法には気相法又は剥離法が用いられています。 気相法では結晶性の高いグラフェンを製造できるますが、高コストという課題があり、剥離法では低コストですが、結晶性が低いグラフェンとなってしまうという課題がありました。 本技術は、水－疎水性イオン液体２液相系での黒鉛の電気化学的剥離により、酸素含有量の低い部分酸化グラフェンを疎水性イオン液体中に均一に分散させる方法です。 【技術の特徴】 ・2液相系（水ー疎水性イオン液体）電気化学的剥離法 ・表面酸素濃度10％以下により、再還元処理が不要 ・表面酸素濃度の制御が可能 材料の黒鉛電極には幅広い材料が適用可能であり、イオン液体を再利用可能な形にするなどの検討を行うことで、大幅な製造コストの低減が期待できます。
