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独自の高エネルギーUVエキシマレーザ！高性能モバイルディスプレイと同じ実現技術を採用
50年にわたるUVレーザと光学システムの経験から、当社はエキシマレーザ ビームの管理、形成、集束に関する課題に精通しています。 長寿命のレーザ、オプティクス、構造によりリスクを回避し、24時間365日 動作可能。高性能モバイルディスプレイと同じ実現技術を採用しています。 また、垂直統合を活用し、厳しい基準に合わせてシステム全体の設計、 製造、組み立てを行っています。 【特長】 ■垂直統合 ■実績のある産業用ツール ■193nm、248nm、308nmシステムと、カスタム157または 351nmオプションから選択可能 ■独自の高エネルギーUVエキシマレーザを、LTPS、LLO、LIFT、PLD、 LA-ICP-MSなどに対して構成された完全な光学システムで最大限に活用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量：3.8kg 寸法：W320×D260×H180mm デモ機貸出可能
超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量：3.8kg 寸法：W320×D260×H180mm デモ機貸出可能 【社内実験機仕様】 ・実験可能サイズ：600×700mm（最大） ・ランプ照度：50～140mW ・ランプ灯数：5本 ・ステージ搬送速度：0.5～5.8m/min ・雰囲気ユーティリティー：N2、CDA、大気中 ・クリーンルーム：クラス10 000 ・接触角計での測定可能 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【主な用途】 ・ガラス、フィルムの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング
レンタル専用エキシマUV ・長期貸出可能 15日～1年間以上 ・月額分割払いが可能 ・装置の修理費用は発生致しません。
【レンタルのメリット】 ・装置導入が難しい ・既存の装置が故障した時 ・急遽、エキシマUV装置が必要になった ・保守、メンテナンス、固定資産税、管理コストを抑えたい ・新規装置導入可能：別途ご相談下さい 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素（CDA）を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄
