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不活性ガス精製装置付グローブボックス
Innovative Technology, Inc.社のPureLab HE は高性能の不活性ガス精製装置付グローブボックスで、特に時間管理や最大効率が求められる製作や大規模な研究用途向けに設計されました。 すべてのPureLabブランドは品質保証手段に基づいて製作され、スウェージロック社のバルブ及び取り付け具、エドワード社のポンプ、アレンブラッドリー社のPLC制御を使用しています。 PureLab HE グローブボックスシステムはモジュラー方式のシステムですので、目的に応じて後から拡張することも可能です。 追加のアンティチャンバー、冷蔵庫、真空オーブン、炉、その他様々なアクセサリー類をご用意しております。 PureLab HEガス精製装置は大気に敏感なアプリケーションに必要とされる不活性雰囲気を作り水分・酸素共に1ppm以下に致します。
クリーニングがやりやすい！広い作業スペースで様々な角度から視界を確保可能
『OSK 55MU33』は、広い作業スペースと不活性ガス環境を 提供し、圧力制御が加わった、卓上型のPVC製グローブボックスです。 真空試料交換室とサイドドアを装備。 透明なPVCチャンバーなのでどの角度からも視界を確保でき、 内部は滑らかでクリーニングが容易です。 【特長】 ■真空試料交換室とサイドドアを装備 ■透明なPVCチャンバーなのでどの角度からも視界を確保可能 ■内部は滑らかでクリーニングが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガス置換ポートとサイドドアを装備！透明PCでクリアな視覚を提供
『OSK 55MU40』は、クリアな視覚を提供する卓上のPC製 グローブボックスです。 ガス置換ポートとサイドドアを装備、透明なポリカーボネートチャンバーで どの角度からも視界を確保出来ます。 作業チャンバーがw300×d400×H500mmの「GBOX-1A」、 w700×d450×H550mmの「GBOX-2A」を ご用意しております。 【特長】 ■ガス置換ポートとサイドドアを装備 ■透明なポリカーボネートチャンバーでどの角度からも視界を確保 ■内部は滑らかでクリーニングが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
TTCでは空気加熱式およびオイル加熱式のフォギングテスターを有しております
当資料では、「ガラス霞み性試験(フォギング試験)」についてご紹介しております。 自動車内装材(ゴム・プラスチック・繊維等)の添加剤や接着剤等から発生する 揮発成分が温度差によりガラス面に付着し、視界を妨げる現象を試験。 ガラス霞み性試験(フォギング試験)の概要やフォギングテスター、ガラス霞み度評価 などについて掲載しております。 【掲載内容】 ■ガラス霞み性試験(フォギング試験) ■フォギングテスター ■ガラス霞み度評価 ■付着物定性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
マグネトロン、イオンビームなど！さまざまな薄膜蒸着ソリューションから選択可能
当社では、幅広いプロセス機能、使いやすさ、優れた信頼性、および グローバルなサービスとサポートを通じて、一貫した再現性のある 結果を提供する「薄膜蒸着装置」を取り扱っております。 蒸着、熱蒸着、マグネトロン、スパッタリング、PE-CVD、イオンビームなど、 幅広い材料とアプリケーションに対応するさまざまな薄膜蒸着ソリューション から選択可能。 また、海外半導体製造装置メーカーの代理店として、新品半導体製造装置 売買および設置を行っております。 【ラインアップ】 ■Infinity Ion Beam Deposition Systems ■Infinity Ion Beam Etch Systems ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
Make the impossible possible
・原子力から医療用まで各種グローブボックスの設計・製造・据付まで対応いたします。 ・大型製缶溶接・機械加工設備にて部品加工～装置製造まで対応可能です。 ・グローブボックスの遠隔化に向けて遠隔操作ロボットの開発を進めています。
時代が求める、環境に優しいクリーンな性能
「遠赤外線コンベア炉」は、お客様の仕様に合わせて、豊富な経験と独自のノウハウからお客様に最適な熱設計を行います。
遠赤外線コンベア炉！遠赤外線セラミックヒーターを使用した連続方式の加熱炉です。
※その他、ＳＵＳメッシュベルト、ウォーキングビーム搬送、トンネル炉など 製品・用途・処理温度などに合わせたカスタム設計ができます。
ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パラメータによる比較評価、膜厚測定などにも対応可能
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータによる評価等、様々なニーズにお応え致します。 ★サービスの詳細を知りたい方、ご依頼を検討されている方は お気軽に下記「お問い合わせ」ボタンより、ご連絡ください。 【特長】 ■各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能 （Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN 等） ■小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能 ■当社の技術者がレシピ製作やパラメータ設定のサポート ■プリカーサのお持込みも対応可能 ■定期的な小ロット生産可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
不活性ガスを使わず－４０℃以下の乾燥雰囲気を実現！卓上サイズで手軽に設置可能
当社“ドライ・キャビシリーズ”から、グローブボックスが新登場！ 『卓上型グローブボックス TDC-160-GB』は、 独自の強力な脱水分装置を採用し、不活性ガスを使わず －40℃以下の乾燥雰囲気を生み出せます。 低消費電力による省エネと、消耗品ゼロの低ランニングコストを実現！ しかも無振動で、作動音も静かです。 【特長】 ■設置しやすく、取扱いやすいコンパクト設計 ■ガラス面フルオープン可能 ■イニシャルコストも低減 ■オプションで露点計も追加可能 ■特注仕様もＯＫ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
読むだけで“グローブボックス”の選び方と基礎知識が身に付く！小冊子プレゼント
＜小冊子『10分でわかる！グローブボックスの選び方』をプレゼント中！＞ グローブボックスの選定ポイントがぎゅぎゅっと凝縮されており、 読むだけでグローブボックス・露点計・湿度計の基礎知識が身に付きます。 しかもYES/NOに答えるだけのチャート式なので、特別な知識は一切不要！ 選び方でお困りの方はもちろん、グローブボックスに関する 知識をお持ちでない方も必見の内容です。お見逃し無く！ 【『10分でわかる！グローブボックスの選び方』内容】 ■グローブボックスの選び方 ■湿度計／露点計の選び方 ■グローブの選び方 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
脱水分装置を標準装備した卓上型グローブボックス！禁水性試薬や材料の秤量・測定に。1台からフルオーダー対応します！
『DRY-CABI-GB』は、小型の脱水分装置が一体となった、コンパクトな卓上型グローブボックスです。半自動で制御する乾燥剤再生システムのため、メンテナンスが簡単。全品が特注品で、希望の材料・形状・サイズで製作可能です。窒素中で乾燥剤を再生でき、外気の混入を防ぐ「窒素仕様」や、高生理活性薬剤の使用などに適した「HEPAフィルター仕様」での製作にも対応しています。 【特長】 ■脱水分装置は露点-40℃以下、露点-20℃以下、湿度15％RH以下の3タイプを用意 ■架台付きや2～3グローブタイプ、縦長タイプなどさまざまな形状で製作可能 ■材質はステンレス・スチール（メラミン焼付塗装）・アクリルから選択可能 ■脱水分装置なしの仕様にも対応 ■見積は無料 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧ください。
手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合物半導体量産プロセスを実現 サンプルテスト＆装置見学対応中
当製品は、基礎研究から先端プロセスの開発までカバーする シンプルでコストパフォーマンスの高いスパッタリング装置です。 全手動化し低コスト化したバッチタイプと手動搬送機構を装備した 簡易ロードロックタイプの2機種をラインアップ。両機種とも上位機種の プロセス性能を維持した上で、大きなコスト低減を実現しています。 サンプルテスト・仕様対応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を 行っています。 【特長】 ■リーズナブルなコストと高いプロセス性能 ■少量生産にも対応可能な高い信頼性 ■豊富な実績に支えられた豊富なオプション類と柔軟なハード対応 ■先端分野の薄膜開発にロードロック機構と事前成膜テストで プロセス開発をサポート ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレスウェハバンプリフロー装置。微細バンプのリフローをウェットレスで実現 サンプルデモ対応 リフロー動画掲載
ダメージフリーのダウンフロー型表面波プラズマの強還元性Ｈ２ラジカル雰囲気でフラックスレスリフロー フラックス塗布、洗浄工程 塗布装置、洗浄装置を削減。完全ドライＣｔｏＣシステム。ファインピッチバンプの短タクトリフロープロセスを実現。
両面成膜・端面成膜・コンパクト・大量バッチ処理。基板の自公転機構が蒸着面の制御を可能に。水晶振動子、薄膜抵抗に独自プロセスを提供
小型基板や小径ウェハの両面成膜、セラミック基板の端面成膜、マスク成膜に最適な独自基板機構を装備。 小型チャンバで大きな処理量を持つ標準横型蒸着装置。 蒸発源・加熱温度・排気系の各種選択可能。樹脂装飾用から電子部品量産の電極形成まで実績豊富な独自機構で対応
