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不活性ガスタイプに替わる超低露点ドライエアー式グローブボックス
露点制御式ドライグローブボックス 「ユーフォニーエース」は、1台の装置で広い露点範囲の試験環境を正確に作り出します。 研究段階の超低露点環境から、実用的な低コスト生産環境まで品質評価ができます。 また±1.5℃以内の露点制御精度を長期間安定して維持できるため、信頼性の高い実験データが得られます。 【特徴】 ○低価格、低ランニングコストで安心 ○低騒音で研究室内でも安心 ○乾き空気を使用するため安全安心 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス（合金化や電極アニール）にも対応。
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱
高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティングに対応。全自動量産型装置ラインナップ。
独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性ＡｌＮを５００℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置
グローブ交換時等再立ち上げ時間の短縮が可能！
『GBJV120』は、メインボックス、パスボックス共に真空ガス置換できる タイプのグローブボックスです。 有害物質の除去、大きな物品の出し入れ後、グローブ交換時等再立ち上げ 時間を短縮することが出来ます。 また、不活性ガス循環精製装置と接続することにより、より良い雰囲気下で 作業をすることが出来ます。 【特長】 ■メインボックス・パスボックス共に真空置換できるタイプ ■グローブ交換時等再立ち上げ時間の短縮が可能 ■不活性ガス循環精製装置と接続することでより良い雰囲気下で作業できる ※画像は、真空型グローブボックス『GBJV080』です。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
酸素と水分をシャットアウト！音声発信・認識機能により、手を触れずに音声操作が可能
グローブボックス 『オーダーメイド製品を実現』 お客様の研究に寄り添える装置を設計・製作しています。 『グローブボックス』（弊社製品名「ピュアボックス」）は、気密性の高いステンレス製の容器にグローブを取付け、空気中で扱えない試料をグローブを使用して取扱い、作業することができる製品です。 グローブボックス・ガス循環精製装置の「製作」による環境提供はもちろん、日々装置の進化を目指し『独自の開発』に取り組んでおります。 例えば、装置自身の振動・騒音を抑えてほしいとのお客様の声より、サイレンサの独自開発を行い製品化し、お客様の装置に取付けて評価を頂いております。 他にも、音声認識機能が付いており、グローブから手を抜かずに音声で操作が可能です。音声を認識し、運転・停止ができ、操作内容・異常内容などを音声にてお知らせします。（※音声操作は、一定の操作に限ります。）
耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開発イオンプレーティング法で厚膜（１０μｍ）を実現
新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓
大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、豊富な経験と実績を柔軟なハード対応とサンプルテストで提供
水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応
不活性ガス循環精製装置 脱酸素装置
電源はコンセントでOKです。冷却水を必要としません。繰り返し再生可能です。脱水分装置、脱酸素脱水分装置もラインナップしています。
メインボックス蛍光灯・内部試料棚・内部コンセントなどを標準装備！
『GBJV065』は、メインボックス、パスボックス共に真空ガス置換できる タイプのグローブボックスです。 ボックス内での手作業中は、フットスイッチ式内圧調整器を使用すること により、絶妙な内圧も制御可能。 ガス置換用操作バブルは、パネルに集中配置されています。 また、メインボックス内照明、内部試料棚、内部コンセント2口、予備ポート を標準装備しています。 【特長】 ■メインボックス・パスボックス共に真空置換できるタイプ ■フットスイッチ式内圧調整器付き ■手作業中も絶妙な内圧の制御が可能 ■メインボックス内照明、内部試料棚、内部コンセント、予備ポートを 標準装備 ■ガス置換用操作バブルはパネルに集中配置 ※画像は真空型グローブボックス『GBJV050』です。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
手作業中も絶妙な内圧の制御が可能！フットスイッチ式内圧調整器を装備しています
『GBJV100』は、メインボックス、パスボックス共に真空ガス置換できる タイプのグローブボックスです。 ガス置換用操作バブルは、パネルに集中配置されています。 また、フットスイッチ式内圧調整器を使用することで、ボックス内での 手作業中でも絶妙な内圧制御が可能です。 また、メインボックス内照明、内部試料棚、内部コンセント2口、予備ポート、 専用架台が標準で装備されています。 【特長】 ■メインボックス・パスボックス共に真空置換できるタイプ ■フットスイッチ式内圧調整器付き ■手作業中も絶妙な内圧の制御が可能 ■メインボックス内照明、内部試料棚、内部コンセント、予備ポート 専用架台を標準装備 ■ガス置換用操作バブルはパネルに集中配置 ※画像は、真空型グローブボックス『GBJV080』です。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
シリコン薄膜をアニール(焼く)する装置の小型化・軽量化を実現した事例をご紹介
半導体業界へ「アニール装置」を改造した事例をご紹介いたします。 既存機の電気設備の老朽化の為のリニューアルが必要でした。 チャンバー内を低真空にして窒素を注入して搬送させ、アニールする機械で ストッカからアニールステージに移動させる時真空圧を維持し、ストッカー部 のみ取出し可能とする構造にすること、掃除用マドを配置し掃除しやすく したいとのご要望がありました。 既存機の改造で小型化、軽量化を実現し、要望にお応えしました。 【事例概要】 ■課題 ・ストッカからアニールステージに移動させる時真空圧を維持する ・ストッカー部のみ取出し可能とする構造にする ・掃除用マドを配置し掃除しやすくする ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
