【回路形成】ALD(原子層堆積)
デュブリンの品質と信頼性が頼り!導電性・絶縁性材料の塗膜を製造可能
当社の半導体における、回路形成「ALD(原子層堆積)」についてご紹介します。 半導体は、高精度で好適な性能を発揮させるための精密仕上げの製品。 ALD(原子層堆積)により、デュブリンは、ナノメートルサイズの構造で 均一に被覆された導電性または絶縁性材料の薄膜を製造できます。 【特長】 ■ナノメートルサイズの構造で均一に被覆された薄膜を製造 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業:有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社
- 価格:応相談