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先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面を実現。超高真空対応のハードが実現する高品質電極膜
従来型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップレットによる膜表面の異常を排除 プロセスや生産量に合わせてリフトオフ蒸着にも対応いたします。リフトオフ蒸着時は厚膜電極に対応した基板背面よりの水冷機構により貴金属厚膜電極の形成が可能です。
豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子燒結接合工程を実績のソフトと信頼性の高いハードでサポート
炉内を水素還元雰囲気置換。Ｎ２による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温半田付や連続還元雰囲気処理熱処理に対応。 各種ペーストの焼成にも実績豊富。 ３００ｍｍウェハ対応のＣｔｏＣタイプでシステムＬＳＩのウェハバンプのリフロー工程もカバー 従来の半田付・ロー付・ペースト焼成工程だけでなく次世代接合材（金属ナノペースト）の燒結接合にも実績対応。 デモ機を常設し各用途の初期テストから量産まで確実にサポート。
R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試作・研究開発のための新型マルチチャンバスパッタリング装置
先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやＭＥＭＳ用の磁性体膜・絶縁膜・保護膜など各種プロセスに実績 蒸着・アニール・ＣＶＤなどの異種プロセス室も装備可能で実績のあるメインフレーム（搬送システム）に各プロセス室を自由に接続できるフルカスタム・オーダーメイド製作が特徴
立体形状部品や外周全面や平板基板の両面、立体形状の成膜に特化した表面処理用多目的スパッタリング装置。タンブラーの内面も成膜OK
樹脂・ガラス・金属等立体形状部品・成形品への表面処理に各種コーティングを効率的に行えるドライ表面処理装置です。金属・セラミックス等各種薄膜を全面に成膜できます。 特徴 ◎立体形状部品への外周全面成膜 ◎特殊機構によるコップ・タンブラー内面コーティング ◎天然由来のドライ親水性コーティング（プラズマ溶岩コーティング） ◎電子基板から樹脂装飾まで幅広い用途に対応
横方向に渡したバーの上にワークをのせ、遠赤外線を照射しながら搬送します
ワークと搬送装置の接触面を極力小さくしたい場合に最適な方式です
熱風でワークを乾燥させるコンベアです
搬送方式は、メッシュベルト（SUS／樹脂）、チェーンバー搬送、タクト送り、複列等、ニーズに合わせて設計いたします。
コンベアの出入口に、断熱シャッターを装備
熱風を最小限に抑えたい時や、ワークの処理時間が長い場合に最適な方式です。
化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置
RIE-330iPCは、放電形式に誘導結合方式（Inductively Coupled Plasma）を 採用した化合物半導体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応 Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、 Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチウェハーなら7枚、 Φ6インチウェハーなら3枚同時の処理が可能 ○新型のICPソースであるSSTC（Symmetrical Shieled Tornade Coil）電極の 採用により、大面積に対して高い選択比と高精度で均一性に優れた エッチングが可能 ○低バイアス（-100V以下）での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供
真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご紹介
『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を 誇るICPエッチング装置です。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・ 低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現しています。 【特長】 <RIE-800iPC> ■最大Φ8”ウエハ対応 ■放電形式に誘導結合プラズマを採用 ■真空カセット室を備えプロセス再現性や安定性に優れる ■ウエハとプラズマ間距離を最適化し、良好な面内均一性を確保 ■TMP(ターボ分子ポンプ)や高周波電源をユニット化し、交換が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/sの広域型ターボ分子ポンプを搭載。
● 価格500万円(税込み) ● φ3インチターゲット 1元カソード ● RF300W電源、自動マッチングボックス付 ● ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 マスフローコントローラーによる調整 ● 酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ● オプションにて基板ヒーターの取付可。 ● 余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ● 800W×600L×900Hの省スペース
大好評！折り畳み式簡易グローブボックス登場
軽量で持ち運びにも便利な折りたたみ式のグローブボックス。 前面フルオープンで出し入れ便利、グローブ脱着も簡単です。 簡易的なガス置換も可能。
酸素、水分濃度１ｐｐｍ以下の環境を実現！
ガス循環精製装置と接続した事により、酸素、水分濃度ともに、１ｐｐｍ以下の環境でお使い頂く事が出来ます。 グローブックス本体部分を真空引き後、ガス置換する事が出来る為短時間で高純度なガス雰囲気を創り出す事が出来ます。 パスボックスも真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部への機器導入が簡単です。
酸素、水分濃度１ｐｐｍ以下の環境を実現！
ガス循環精製装置と接続した事により、酸素、水分濃度ともに、１ｐｐｍ以下の環境でお使い頂く事が出来ます。 グローブックス本体部分を真空引き後、ガス置換する事が出来る為短時間で高純度なガス雰囲気を創り出す事が出来ます。 パスボックスも真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部への機器導入が簡単です。
酸素、水分濃度１ｐｐｍ以下の環境を実現！
ガス循環精製装置と接続した事により、酸素、水分濃度ともに、１ｐｐｍ以下の環境でお使い頂く事が出来ます。 パスボックスを真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部への機器導入が簡単です。
サンプリングから測定までを雰囲気内で可能
測定環境の酸素、水分濃度を1ppm以下に常に保つ事ができ、スピーディーかつ、安定した観察が可能です。 また、顕微鏡の他にAFM（原子間力顕微鏡）やTG（熱重量分析器）、ガスクロなどを導入してご使用頂く事が出来ます。
グローブボックス、ガス循環精製装置のことならお任せください。
短時間で酸素・水分を除去し、最適な作業環境を創出。 【特徴】 ＜グローブボックス＞ ○コンパクト＆エコノミータイプ ○真空型／ガス置換型対応 ○複数グローブ型／対面作業型対応 ○自動調圧機能により、グローブ作業が容易 ＜ガス循環精製装置＞ ○コンパクト＆エコノミータイプ ○短時間でガス精製可能（水分、酸素） ○貴金属触媒とＮｉ触媒の選択が可能 ○製造装置に対応し、連続使用が可能（ダブルカラム型） ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
ドライルーム環境作りに最適！手軽さを追求、リーズナブルに提供します
「Desi-Cube mini」は、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガスを使用せず、 除湿ローターを活用したデシカント除湿機で、ドライルーム環境を作ることが できるグローブボックスです。 従来高価なイメージの強いドライルーム環境での実験を、「もっと手軽に使用 したい」というお客様のニーズにお応えするため、当社独自の除湿技術を コンパクトに集約し製品化しました。 【特長】 ○設備工事がいらず手軽に設置できます。 ○面倒な設定はいりません。 ○特別な知識がなくても手軽に使用できます。 ○露点温度制御装置や帯電防止等の調整機能も充実。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
標準モデルと共に、アプリケーションに適したカスタムモデルのご相談にも応じます
主に次の実験・製造用途で使用されています ●インクジェットプリンティング ●リチウム電池製造 ●OLED・PLED薄膜蒸着 ●医療器具 ●薬剤・製薬・調剤 ●特殊化学 ●化学研究 ●ランプ
イノベーティブテクノロジーのグローブボックスは、調剤・製薬の分野でご利用できます。
特 徴 ■システムは、アメリカで製造しています ■操作用インターフェースで操作は簡単 ■機器のアクセサリーは豊富で、各種サイズのシステムを供給 ■酸素・水分ともに1ppm以下の不活性ガス雰囲気を維持します ■精製カラムの再生を自動で行ないます ■用途に応じた特殊デザイン ■１９８１年より、グローブボックスの供給を行なってきた実績 ■高品質のガス・真空部品 ■溶媒精製装置を搭載できます ■ガス精製装置を搭載したモバイルスタンドもあります
リチウム電池・リチウムイオン電池・OLED・有機EL・PLED・薄膜・蒸着・次世代照明・封止・パッキング
特 徴 ■システムは、アメリカで製造しています ■操作用インターフェースで操作は簡単 ■機器のアクセサリーは豊富で、各種サイズのシステムを供給 ■酸素・水分ともに1ppm以下の不活性ガス雰囲気を維持します ■精製カラムの再生を自動で行ないます ■用途に応じた特殊デザイン ■１９８１年より、グローブボックスの供給を行なってきた実績 ■高品質のガス・真空部品 ■溶媒精製装置を搭載できます ■ガス精製装置を搭載したモバイルスタンドもあります
基材駆動機構を備え、基材を回転・旋回・水平進をすることが可能！加熱ヒーターはカーボン製を採用
『セラミックコーティング装置』は、高真空状態において基材に セラミックをコーティングする装置です。 チャンバー内温度を1200℃近くまで昇温可能。また、大きな特長として、 基材駆動機構を備えており、基材を回転・旋回・水平進をすることができます。 蒸発源として電子銃（JEOL製16KW電子銃）を採用、インゴット状の 蒸発材料に対応する為にルツボ部が昇降・回転制御可能となっています。 成膜制御として、シャッター機構を有していますが、開閉時間の設定や 反復運動の回数設定も行えます。 【特長】 ■高真空状態において基材にセラミックをコーティング ■チャンバー内温度を1200℃近くまで昇温可能 ■基材駆動機構を備えており、基材を回転・旋回・水平進をすることが可能 ■蒸発源として電子銃（JEOL製16KW電子銃）を採用 ■インゴット状の蒸発材料に対応する為にルツボ部が昇降・回転制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低酸素・低湿度といった特殊環境下での物質の取扱いを行なえる装置
〇電池材料や半導体材料など、酸素や水分に触れると性質が損なわれる原料の取扱いの際に使用できる装置です 〇グローブボックスの作業エリア内を低酸素もしくは低湿度空間とすることで、物質の特性を維持したまま作業を行なえます 〇低酸素もしくは低湿度空間は、窒素やドライエアなどを作業エリア内の空気と置換することで構築します 〇標準性能として、酸素濃度と水分値をいずれも1ppm以下を達成しています ＜ガス精製装置付きグローブボックスの使用例＞ 〇酸素や水分を嫌う原料の秤量工程 〇上記原料の粉砕などの加工工程（粉体加工機械を作業エリアにドッキング）など ※当社の静岡テクノパーク（静岡県藤枝市）にて、実機をご覧いただけます。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、ダルトンまでお問合せください
医薬品以外の現場で封じ込め空間を構築可能な密閉型排気装置
〇作業空間を陰圧状態とし、庫内の物質を庫外に曝露させないための装置です。 〇作業者や外部環境の安全確保、取扱物質のコンタミネーション防止が可能です 〇医薬グレードが求められない現場において導入可能です ＜排気型グローブボックスの使用例＞ 〇化学系原料の秤量 〇放射性物質の取扱い（鉛の遮蔽物を装備）など ※詳しくはダルトンまでお問合せください
不織布およびテクニカルテキスタイル！生産設備や環境上の利点など、わかりやすくご紹介
当資料は、当社が取り扱っているEuroplasma社製の 『真空プラズマナノコーティング』についてご紹介しています。 ユーロプラズマの主な用途は、「NW（不織布）」と 「TT（テクニカル テキスタイル）」です。 湿式化学処理と比較して、「プラズマナノ コーティング」には 印象的な環境上の利点があります。 【掲載内容】 ■Europlasma ■プラズマプロセス ■不織布およびテクニカル テキスタイル ■生産設備 ■環境上の利点 ■結論 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ALL SUS使用の為耐酸性にも強く空気中では毒性の強い物質・固体・粉体の作業スペースが実現！
【特徴】 ・低価格にて手軽に実現！ ・ALL SUS使用の為耐酸性にも強く空気中では毒性の強い物質・固体・粉体の作業スペースが実現！ ・前面ガラスを簡単に外せる為、大きな品物の出し入れも楽々！幅広い各種オプション装着にてあらゆる処理が実現！ 【標準装備】 ブルドン管式真空計：本体1箇所 パスボックス1箇所
◆楽々移動可能な簡易型グローブボックス◆
簡易グローブボックスは、外気と遮断された状況下で作業が可能となるように、内部に手だけが入れられるよう設計された簡易密閉ボックスです。ボックスのゴム手袋（グローブ）が直結してあるため、外気を遮断した作業が可能となり作業者を守ります。 ■本体サイズ、グローブ数、グローブ位置等、フルオーダーメイドが可能です。 ■キャスター付きです。移動時には樹脂製シャッターを上げて移動します。
お客様の多岐に渡る研究用途に合わせて、高真空、超高真空、さらには極高真空の領域まで各種真空チャンバーを制作
北野精機では、お客様の多岐に渡る研究用途に合わせて、高真空、超高真空、さらには極高真空の領域まで各種真空チャンバーを制作しています。真空チャンバーの形や使用するステンレス鋼の材質は、実験の内容に応じて豊富な種類の中から最適なものを選択。分岐機器や計測機器の取り付け用ポートの設定も、数や角度、位置などきめ細かくご指定いただけます。 さらに、特別な加工が必要となる等どのようなご要望に対しても、設計から加工、表面処理、ペーキング処理、洗浄、組立、リークテスト、真空立ち上げまでの一貫体制で、的確にお応えします。
シャッタースピードは、空圧調整バルブ(標準付属)にて任意に可変可能
ビームシャッター機構は、駆動系に電磁弁制御式のエアシリンダーが装備されており、応答速度の素早い遮断動作・開放動作が可能です。 本製品は、ルビジウム(Rb)やナトリウム(Na)などの原子線ビームを、遮蔽及び開放するシャッター等にて使用されます。 【仕様】 ○シャッター動作スピード 30～800mm/s ○シャッター動作ストローク 0～20mm ○取付けフランジ ICF-70（スルーホール） ○ベーキング温度 200℃（エアシリンダー、電磁弁部除く） ○シャッター動作方向 全方位対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
