更新日： 集計期間:2025年10月01日～2025年10月28日
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貴社のニーズにマッチしたAVEVAソリューションをご提案・ご提供いたします
AVEVA社のソリューションプロバイダーとして、”プラントエンジニアを中心としたメンバー”によるAVEVA Process simulation(APS)を活用したエンジニアリングサービスを提供。 APS活用により研究開発から保全まで生産活動の色々な場面でお客様のサポートを行っています。 従来のプロセスシミュレーターでは実現できなかった様々な課題を解決致します。
Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズマスパッタリング」シミュレーション事例
長い円筒パイプの内側に強い膜を成膜する方法のひとつである円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの解析事例です Particle-PLUSで利用可能な 1)軸対称モデル 2)鏡面対称境界条件を組み合わせることで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく高速に結果を得ることができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元)3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとしてカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレーションの『Particle-PLUS』解析事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッチングボックスを考慮しCCPプラズマシミュレーションが可能
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの『Particle-PLUS』解析事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle-PLUSでは重畳2周波CCPの計算も可能です。
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
機械学習によるパラメータ最適化により、高速な数値シミュレーションが実現できます！
流体、構造、電磁場等の製品の扱う場を偏微分方程式の数値シミュレーション による解析では、計算時間がかかることが大きな課題があります。 機械学習的手法を用いることで、計算時間の大幅な削減が可能！ また、従来行われてきたCPUでのシミュレーションをGPU上で実行することで ベストケースで100倍の高速化が可能になります。 【技術詳細】 ■Faissの機械学習friendlyな数値シミュレーションアルゴリズムの開発高速化 ・従来利用されてきた数値シミュレーションアルゴリズムを いくつかのパラメータを適切に設定することで、 従来の精度を損なわずに高速化できるアルゴリズムを開発 ・機械学習によるパラメータ最適化により高速な数値シミュレーションが実現可能 ■数値シミュレーションのGPU上での実行 ・従来行われてきたCPUでのシミュレーションをGPU上で実行することで ベストケースで100倍の高速化が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
完全なシステムシミュレーションや予測保守に向けたデジタルツインを構築、検証、展開
仮想システムのプロトタイプのモデル化、シミュレーション、および解析に対する協力なプラットフォームです。このプラットフォームにより、製品開発チームがソフトウェア制御のマルチドメインシステム設計の性能を検証および最適化することが可能になります。 ＜Ansysの個人情報の取り扱いについて＞ 登録することにより、この プライバシー通知 (https://www.ansys.com/ja-jp/legal/terms-and-conditions) に準拠して、この事象/資産および関連するコミュニケーションを提供する目的で、これらの 条件 (https://www.ansys.com/ja-jp/legal/privacy-notice)および個人データの処理に同意したことになります。
生産量増強・操業最適化・スケールアップ設計・コストダウン・省エネ等に！
＜gPROMS FormulatedProducts 晶析プロセスライブラリ＞ 生産量増強、運転改善やプロセスの最適化における様々な検討と意思決定にご利用いただけます｡ 晶析プロセスにおける効率的な手順（レシピ）の構築のため、以下の流れで業務を効率的に遂行し､短期間（1～2か月間程度）でこれらを達成します｡ モデリング→実験→モデルの検証（パラメータ推定、バリデーション）→ プロセス最適化検討→スケールアップ検討 パラメータ推定がツールで自動的に行えることが､検討期間短縮の大きな要因です。またkineticモデル（仕組みを数式で表現）であるため、パラメータの数は必要最小限です。 また､冷却の温度の下げ方やパターン、種結晶を入れる量やタイミング、蒸発量や加熱のパターン等、自動でオプティマイゼーション（最適化）を行うツールは強力で､スケールアップは場合によってCFD（流体シミュレーション）と外部接続して実施します。
テンプレ、モジュール利用で簡単設定！解析時間を従来ソフトから約1/3に削減した事例も。
容積形ポンプ、コンプレッサー、弁の流体の過渡特性を計算するための流体シミュレーションツールです。質量、運動量、エネルギー、化学種の保存則を正確に解くことで精度の高い流体シミュレーションを実現します。 【特長】 ◆他ソフトでは困難な回転変形に対する計算メッシュの自動生成 ◆流量・圧力脈動・トルク・エアレーション/キャビテーションなどの特性を解析 ◆計算結果/進行状況をリアルタイム表示 ※国立大学法人 九州工業大学様で採用された事例があります。詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算
当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
CFD（流体解析のソルバー）を低価格で提供します！
『EDDL』は、自動車の設計工程の大幅短縮とコスト削減に貢献する 電着塗装のシミュレーションソフトです。 初期導入教育期間を短縮し、導入の1～2日後から解析が可能。 ヒューマンエラーを最小限に抑え、無駄を省きます。 【機能】 ■メッシュの自動生成 ■並列化による高速計算 ■高精度な塗料相関式 ■Air Poket予測ソフト（AAPD）との連成 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
