更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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処理可能基板サイズ550×650ｍｍ。無廃液化・低ランニングコストを実現。
「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、Ｆ系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化，無廃液化 ○低ランニングコスト ○処理可能基板サイズ550×650ｍｍ その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広く利用
チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○8，12インチ用装置も設計可能 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
プラズマ処理装置（多目的プラズマエッチャー）
本装置は、平行平板型高周波プラズマにより、ポリイミド系樹脂・窒化膜等のエッチングやフォトレジストのアッシング（灰化除去）、表面改質等に有効な多目的枚葉式プラズマユニットです。 ウエハサイズ50〜200mm（2〜8インチ）、BGA・CSP等に対応しており、プラズマモードは、オペレーションパネルでDPモードとRIEモードを切り替える事が出来ます。また、搬送ユニットの後付けが可能な為、実験・研究施設等に最適です。
大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置！装置の小型化によりラインへの組み込みが容易です！
大気圧プラズマ処理装置『NJZ-2820』は、高効率プラズマヘッド搭載により、生産ライン、生産設備機器への組み込みに最適な装置です。大気圧での安定したプラズマ処理、圧縮空気をプラズマ化しランニングコストの低減を可能にしました。装置の小型化により、ラインへの組み込みも容易です。 【特長】 ■2.45GHzマイクロ派による高密度プラズマを発生 ■素早い発火で必要な時にのみプラズマ発生を可能に ■装置の小型化・低価格化を実現 ※低温プラズマ（７０℃以下）・酸素を使った熱処理プラズマについてもご相談ください。 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
価格は低廉でありながら搭載しているシーケンサ。各アッシング条件の管理を行うことが出来る高性能でコストパフォーマンスに優れた装置。
小型の電力整合方式マッチャーを採用しており、プラズマ整合の高速化を実現しております。整合時間の短縮化により、プラズマ着火時における素子へのチャージアップダメージの低減を実現しております。また本体以外はＰＵＭＰのみの省スペース化を実現しております。
6インチと8インチのウエハーに対応！平行平板方式のプラズマ処理装置
WLP600Sは、平行平板方式のプラズマ処理装置です。 6インチと8インチのウエハーに対応し、低価格・省スペースを実現しました。 コントロール・パネル上の操作のみでDP（ダイレクトプラズマ）モードとRIE（リアクティブイオンエッチング）モードの2種類のプラズマ方式を切り替えられ、ポリイミド系樹脂のエッチングやフォトレジストの表面改質など多様な用途にご利用頂けます。 【特徴】 ○容易なプラズマモード切替 ○高速追従性 ○省フットプリント ○多種多様なプロセスに対応 ○多種多様なカスタマイズ性 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
アジア有力企業において多数の実績あり。
プラズマ発生部と処理部を完全に乖離します。 処理はラジカル成分のみで実施します。 ■処理対象 対象ワーク表面の改質(接合強度の向上、密着性の向上） 対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■電子・イオンのアタックがなくラジカルのみでの化学的な処理のため処理膜へのダメージを低減 ■電極形成後の導電フィルム・ガラスの処理に最適 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air) N2 O2 Ar等 詳しくはお問い合わせください。
【高速・均一・両面処理】メッキ前処理、LCP・PTFE等の貼付け前処理に。
「インライン式プラズマ処理装置」は高速通信用低伝送損失基盤等の貼付け前処理、 デスミア・ドライフィルムの残渣除去に使用可能です。 インライン搬送にも対応しています。 ＜製品特長＞ １．高速、高均一 両面処理 ２．自動搬送対応 ３．面内均一冷却 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
【高速・均一・両面処理】メッキ前処理、高速通信用低伝送損失基盤等の貼付け前処理に。
「バッチ式プラズマ処理装置」はLCP・PTFE等の貼付け前処理、デスミア・ドライフィルムの残渣除去に使用可能です。 世界各国の量産工場で200台以上稼働実績があります。 ＜製品特長＞ １．高速、高均一 両面処理 ２．豊富な実績 ３．面内均一冷却 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
処理能力に合わせた機種を製作可能！熱によるボトル変形がないプラズマ処理装置
当製品は、アークプラズマをボトル表面に照射することにより表面改質を行い、 濡性を高め印刷、接着特性を改善するプラズマ処理装置です。 プラズマの照射なので、熱によるボトル変形がなく、処理能力に合わせた機種を 製作できます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。 【特長】 ■濡性を高め印刷、接着特性を改善 ■プラズマの照射なので熱によるボトル変形がない ■処理能力に合わせた機種を製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
プライマーを使わない表面処理をお探しですか？ 有機材料の表面活性と無機材料の表面洗浄に最適な真空プラズマ装置です。
真空チャンバー内で低圧プラズマを発生させ、材料表面を改質します。 当社製品は高励起周波（GHｚ）のため、プラズマ中のイオンの濃度が高く、 最大限の処理効果が期待されます。 圧縮エアだけでなく、プロセスガスを用いることでさまざまな機能を材料表面にもたせることができます。
微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質が可能！溶液を使用せずに洗浄や改質ができ、良環境性と低ランニングコストを実現
バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液（Ｗｅt）を使用すること無く行える装置です。良環境性（クリーンな作業環境、無廃液）と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理（円筒形処理室／等方性プラズマ） ■多様なプロセス：Ａｓｈｉｎｇ（洗浄）、Ｅｔｃｈｉｎｇ、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応（半導体製造装置として使用可能） ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
コンタミレスでクリーンなプラズマ改質を実現
＜特長＞ ●石英ガラス管内でプラズマを発生させるため、パーティクルなどの不純物が、被処理物に降りそそがれることなく、クリーンなプラズマ処理を行うことができます。 ●プラズマ発生部に消耗部品が少なく、定期的なメンテナンスを実施していただければ、10 000時間以上もの長寿命が得られます。 ●大気圧下でプラズマ処理を行えるため、減圧装置が不要で、設備投資が軽減できます。 ●本装置はプラズマ発生部と、コントローラ部の二つに分離されているため、プラズマ発生部のみをお客様の既存設備や新規設備に組み込むことで、容易にインライン設備を構築することができます。 ●狙いを定めたエリアを、ピンポイントで高速プラズマ処理することができます。 ●標準でお客様側設備との入出力制御機能を有していますので、お客様側設備からの信号で、プラズマ照射のON/OFFなどを制御することができます。
