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十分に競争できるコスト！広い範囲で光工学表面弾性波フィルターなどの分野などをカバー可能
アイスモス・テクノロジーは薄膜のSOIウエハーを<1um以下の デバイスレイヤーにて供給いたします。 20年以上のSOI製造の経験により、アイスモスはRFアプリケーションに 使われる厚膜SOIと同様の高い品質の製品をご提供可能。 シリコンウエハーや熱酸化膜など広い範囲で、アイスモスの薄膜SOI ウエハーは光工学表面弾性波フィルターなどの分野などをカバーできます。 【特長】 ■シリコンウエハーや熱酸化膜など広い範囲で光工学表面弾性波 フィルターなどの分野などをカバー可能 ■6シグマの統計学的管理手法に基づくプロセス管理で常に継続的改善を 進めながら、アイスモスは世界クラスの製品品質を提供 ■十分に競争できるコストと柔軟な対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
深いシリコンエッチやMEMS加工の⾧年の経験を活用して、お客様の設計に沿った自由度の高い構造を作り上げます。お気軽にお問合せを！
当社は、100-150mmのキャビティーボンディングSOIウエハーをMEMSの 広い分野において提供するリーディングサプライヤーです。 高度なウエハーボンディング技術を提供し、お客様のキャビティー 仕様の材料を革新的な製品への材料として可能にします。 アイスモスのキャビティーボンディングSOIウエハーはプレエッチング されたキャビティーをシリコン薄膜下に持つ構造となり、これをお客様が さらに市場の要求に見合う高度なデバイスへとデザインすることができます。 【特長】 ■高度なボンディング技術 ■解放時の付着問題を減らす ■簡潔な製造フロー ■低コストなCavity SOI/Si-Siのソリューション ■お客様に必要なアプリケーションに沿った自由度の高い構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
20年以上の経験！興味深い仕様範囲の材料で完全なDSOIの解決法をご提供いたします
アイスモス・テクノロジーはDSOIのリーディングサプライヤーです。 DSOIは、ICやMEMS用に幅広く使われており、SOI製造の20年以上の 経験をもとに、私たちは幅広い市場で応用できるような興味深い 仕様範囲の材料で完全なDSOIの解決法をご提供します。 広範囲なSOI経験がありますので、アプリケーションエンジニアが お客様のDSOIウエハーをプロセスするのに好適なパラメーターの 組み合わせの選択をお手伝いします。 【特長】 ■自由度の高いアプローチでアイスモスはお客様の実験開発レベルの 少量ロットから、量産までご対応 ■MEMSプロセスエンジニアは光学、慣性、生体や他のMEMS分野に おいても経験あり ■アイスモスは追加のファウンドリーサービスとしてMEMSやトレンチ エッチング、隔離構造なども提供可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
十分に競争できるコストと柔軟な対応！完璧なカスタムSOIのソリューションとして提供
アイスモス・テクノロジーは、ICやMEMS応用など広い範囲 に適用される100-200mmの厚膜SOI（Silicon-On-Insulator） ウエハーのリーディングサプライヤーです。 20年以上のSOI製造の経験で、広い分野の市場に対応できる 仕様のスペックのウエハーをご提供いたします。 【特長】 ■高いスキルをもつアプリケーションエンジニアチームが、 要求事項に応じてパラメーターのお見積りの選択をお手伝い ■完璧なカスタムSOIのソリューションとして提供 ■6シグマの統計学的管理手法に基づくプロセス管理で常に継続的改善を 進めながら、アイスモスは世界クラスの製品品質を提供 ■十分に競争できるコストと柔軟な対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
