更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
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ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応
両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ4インチウェハ対応『BS425』 ■最大φ6インチウェハ対応『BS620』 ■コンパクト設計 ■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能 ■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易 ■ウェハ位置決めガイド搭載（オプション） 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ウェハ表裏同時露光。セミオート動作で中ロット生産に対応！
両面同時露光マスクアライナー BS320は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利くモデルです。各種ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります。二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもラインアップしています。セミオート動作で中ロット生産に対応しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
セミカスタムで最適なシステム構成にできます
汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。
露光光源照度分布は±5％以内！デスクトップ型と自立型のモデルをラインアップ
『BA100/160/200』は、上下両面に高位置精度パターニングするマニュアル型の両面マスクアライナーです。 デスクトップ型でウェハサイズ4inの「BA100」と6inの「BA160」に加え、 自立型でウェハサイズ8inの「BA200」をラインアップ。 また、アライメント精度はTop-sideにて±2μm、Bottom-sideにて±5μm としております。 【仕様（抜粋）】 ■ウェハサイズ：4in/6in/8in ■露光光源照度分布：±5％以内 ■露光解像度 ・ソフトコンタクト：L/S 3μm ・ハードコンタクト：L/S 1μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
平行光露光装置のラインナップのご案内です。
均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
大学・研究・開発に好適！ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます
『QEV Series』は、低価格でカスタム性の高いチューブタイプ エキシマランプです。 バッチ照射用ユニットとスキャン照射用ユニットをご用意。 波長は172nm、分布は±15％となっております。 ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます。 ご用命の際は、当社までお気軽にご相談ください。 【バッチ照射用ユニット 仕様（一部）】 ＜QEV-160＞ ■波長：172nm ■ユーティリティ：N2／冷却水／AC100V ■分布：±15％ ■照射開口：176×176 ■対応ワークサイズ：6inch ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大学・研究・開発に好適！高照度一括照射可能なエキシマ照射ユニット
『SPC Series』は、フラットタイプのエキシマUV照射装置です。 照度分布を従来の±15％から±5％まで向上。高照度一括照射可能な エキシマ照射ユニットとなっております。 ウェハ洗浄をはじめ、露光光源やコータ前処理、レジスト改質などに ご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■真空対応可能 ■照度分布を従来の±15％から±5％まで向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
裏面アライメントがないので低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に最適な装置を実現しました。
『AMA6000』は、自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 ASAPのマスクアライナーはマスクと完全非接触でウェハとのギャップ管理を行います。 非接触もできますが、ソフト、ハードコンタクトにも対応。 低価格、コンパクト、簡単操作を実現しました。 【特長】 ■完全非接触での平行出し&露光 ■省スペース&簡単メンテナンス ■オートアライメント ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
波長365nmのUV-LEDを使用、常温照射、低ランニングコストです！
『UVC-708』は、波長365nmのUV-LEDを使用した、コンパクトな LED光源UVフィルム硬化装置です。 UV-LEDの特長である常温照射、低ランニングコストはそのままに、 8インチウェハに対して全面照射を可能としました。 【特長】 ■365nmのUV-LEDを使用し、常温照射、低ランニングコスト ■小型、テーブルトップサイズ ■簡単ボタン操作 ■LEDユニットエラー検出機能 ■N2パージ機構標準搭載 ■8インチ枚葉式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
AL-Xは主に高周波・パワー半導体用材料として、極めて優れた低誘電特性を持った感光性樹脂で、200℃以下の低温硬化可能です。
ポリイミド、エポキシ樹脂より低誘電特性に優れた樹脂です。 【特長】 ●電気的特性 低誘電率・低誘電損失の材料です。 ●機械的特性 高い伸度と低いヤング率を有しております。 ●感光特性 溶媒現像ネガ型の材料で高い解像度を有しております。 ●低温硬化 200℃以下の低温でも硬化可能です。 ●吸水率 他の低誘電性樹脂よりも低い吸水率を有しております。
ローコストでフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナー
実験・研究用マスクアライナー ES410は、ローコストながらフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。フルマニュアル機で各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などにご使用頂けます。ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットやオプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置にセットアップ可能です。ほとんどのユニットが後から追加・変更できますので将来のグレードアップにも対応致します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェハー用ダイシングテープの硬化用途、UV-LED採用で安定長寿命
LED採用で安定長寿命。 6インチ、8インチウェハー対応。 12インチウェハー用製作可能。 照射器交換可能(365,385,395,405nm等)。 0～１００％調光可能。 窒素置換(N2パージ)機構採用によりＵＶ硬化時の酸素阻害を軽減。
ワークを回転させながら照射させるため、ウェハー全領域に均一なUV照射を行なう事が可能
【モデルUVC-512】は、特定波長（365nm）の紫外線を照射することのできる装置です。UV（紫外線）硬化タイプのフィルムに照射することで、ダイシング後に、チップをテープから簡単に剥離させることが可能となります。 本装置は、ワークを回転させながら照射させるため、光源長がワークの半径分で収まり小型、軽量でかつ、ワーク全領域に均一な照射を行なうことが可能なUV フィルム硬化装置／UV 照射装置です。
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光装置
ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。
