マスクアライナー

ES20シリーズ

株式会社ナノテック

セミカスタムで最適なシステム構成にできます

汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。

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マスクアライナー

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この製品へのお問い合わせ

基本情報

【コンタクト方式の等倍パターン露光装置】 シリコンウェハなどに紫外線でパターン露光する装置。

価格情報

350万〜900万円

納期

~ 1ヶ月

用途／実績例

センサ、電力関連素子、LED、通信関連チップなど各種半導体製品の製造・研究などに使用します。

企業情報

株式会社ナノテック

株式会社ナノテック

試験・分析・測定

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