セミカスタムで最適なシステム構成にできます
汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。
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基本情報
【コンタクト方式の等倍パターン露光装置】 シリコンウェハなどに紫外線でパターン露光する装置。
価格情報
350万〜900万円
納期
~ 1ヶ月
用途／実績例
センサ、電力関連素子、LED、通信関連チップなど各種半導体製品の製造・研究などに使用します。
企業情報
MEMS マイクロマシン関連開発ツールのご用命は当社へ
