ウェハ表裏同時露光!セミオート動作で中ロット生産に対応
両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ4インチウェハ対応『BS425』 ■最大φ6インチウェハ対応『BS620』 ■コンパクト設計 ■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能 ■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易 ■ウェハ位置決めガイド搭載(オプション) 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【仕様】 ■適用試料 ・最大φ4インチ『BS425』 ・最大φ6インチ『BS620』 ■適用マスク ・最大口5インチ『BS425』 ・最大口7インチ『BS620』 ・マスク・ウェハサイズ変更は上下マスクホルダー交換 ■露光性能 ・有効露光範囲φ105mm Hgランプ250W ■UV照度 ・上側約15mW/cm2以上 ・下側15mW/cm2以上(at365nm) ・照度均一度約±10% ■露光解像度:ライン&スペース3μm ・デバイスの最終加工精度ではありません。 ■露光方式:コンタクト方式(コンタクト圧可変式) ・ウェハ上面のみプロキシミティ露光可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途/実績例
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
詳細情報
-
各種カスタマイズ承ります ご要望に合わせて設計製造いたします
ラインアップ(1)
型番 | 概要 |
---|---|
BS425 | ・最大φ4インチ ・最大口5インチ |
カタログ(1)
カタログをまとめてダウンロード企業情報
MEMS マイクロマシン関連開発ツールのご用命は当社へ