真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作
真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
- 企業:シグマ光機株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年10月01日~2025年10月28日
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真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。
【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが1台で可能だったり、広範囲のデータ(スペクトル等)が必要な場合に有効です。
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
ピエゾコントローラ クローズドループ制御
静電容量センサー(C)、ひずみゲージセンサー(S)に対応 チャンネル数 1ch・3ch 出力電圧-50~150V
最大30kgの耐荷重と±0.1µm再現性を両立した高精度6軸制御
H-840は、スチュワートプラットフォーム構造を採用した高精度ヘキサポッドで、6本のアクチュエータにより並列駆動されます。 Z軸±25mm、X/Y方向±50mm、回転±30°と柔軟な動作を実現し、光学アライメントやマイクロマニピュレーションなどの高度な位置制御が可能。 最大30kgまでの荷重に対応し、±0.1µmの位置再現性と高い制御精度を兼ね備えています。
ペルチェの駆動電源独自の回路方式を採用!小型・高効率で高精度なドライバ
『TDC-1640/1660 シリーズ』は大容量ペルチェ素子用の1ch デジタルコントローラ(1200W/1800W タイプ)です。 温度変換部・PID 制御部・バイポーラ高効率定電流駆動部が一体となっており、AC 電源を供給するだけでペルチェ素子の温度制御ができます。 さらに大電力タイプながら制御安定度±0.03℃を実現しました。 またパソコンとのインターフェイスを標準装備していますので、あらゆるシステムに対応することができます。 【特徴】 ○小型・高精度 ・マイコンによるソフトウェアディジタル制御を採用で高精度 ・ペルチェの駆動電源に当社独自の回路方式を採用し 小型・高効率で高精度 ○高速 ・ペルチェの温度コントロール専用に開発 ・制御サイクルが10 回/秒と高速 ○汎用性 ・表示パネルから温度センサ(Pt100,サーミスタ)を選択して使用可 ・パソコンとのインターフェースを利用し、種々の温調システムを構築 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。