高濾過精度低圧力損失PTFEガスフィルター
安定した濾過性能
濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.003μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
- 企業:株式会社ピー・ジェイ
- 価格:応相談
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安定した濾過性能
濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.003μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
濾過精度
半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。
高濾過精度0.003μmの性能をそのままに、低圧力損失を実現!
半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。 従来のPGFシリーズと全く同じ外形寸法で約2倍の流量を処理できます。
濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。
全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.003μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
濾過膜はPTFE製2層構造
(株)ピュアロンジャパン製ガスフィルターです。 濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.01μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
最大1,000lpmまでの流量を確保
■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、ハウジングにはSUS316L材を使用しております。 ※半導体製造装置からPV用バルクガス供給ライン等幅広い用途にご使用できます。
最高使用温度 400℃対応の高性能メンブレンガスフィルター
GasProTEM-700シリーズは、反応性のガスやハロゲン化マイクロエレクトロニクスガス用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、フィルター材質は0.01ミクロン。大流量で低いデルタPが必要なケース、またスペースが限られているところに最適です。 本体はグラスファイバーとSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されており、類似サイズのメンブレンフィルターよりも10~20倍高いろ過性能があります。 清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。TEM-700は高温用途向けで(Max.400℃)、様々な接続タイプをご用意しており容易に取り付けられるようになっています。
焼結されている金属フィルター濾材で主に500℃まで対応可能。素材によって高温対応の製品もあり!(詳細は御問合せください)
フィルターエレメントの特性を活かし、クリーンエネルギーの分野で活躍するフィルターシステムを提案しています。特に、パルスジェット用ガスフィルターのエレメントとして、水素製造、SAF、バイオマス燃料製造、GTL・CTL等で活躍しています。 【特長】 フジが提案するダウンフローのパーシャルバックブロー設計が、バックブロー時にガスの流れが交差しない、最も特徴的かつ効率的な構造です。 【提案の範囲】 ・フィルターエレメントの提案・設計・製造 ・フィルターハウジング及びシステム提案・設計・製造
圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性等ガスフィルターに求められる特性面も優れています!高純度アルミナを使用
クアーズテック社のインライン・ガスフィルター『CEPURE』に採用したエレメントは、耐食性に優れた99.9%以上の高純度アルミナで、均一にコントロールされた2層もしくは3層からなる微細な細孔を有しています。 幾何学的に圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性などガスフィルターに求められる特性面においても非常に優れており、理想的なフィルターメディアです。 【特徴】 ・優れたガス置換特性 ・高耐食性 【仕様】 材料:アルミナ多孔体(エレメント部)/SUS/ニッケル/PTFE 【用途】 各種半導体プロセス用インラインガスフィルター ※詳しくはお問い合わせください
【選定ガイド進呈中】4ステップで簡単選定!様々なガスフィルターからご状況に適したモデルを選定できます!
サヤマトレーディングではPorvair社の多様なガスフィルターを取り扱っています。 TEM 高性能ガスフィルターの選定ガイドの手順1~4を参照し、TEMからはじまるシリーズ名と、継手をご指定ください。 <選定手順> ・ステップ1 ガスの温度 ・ステップ2 ガスの種類 ・ステップ3 ガスの流量 ・ステップ4 継手のサイズと形状 →ご状況に適したガスフィルターの選定が簡単4ステップで完了します! ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。