高濾過精度低圧力損失PTFEガスフィルター
安定した濾過性能
濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.003μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
- 企業:株式会社ピー・ジェイ
- 価格:応相談
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安定した濾過性能
濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.003μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
濾過精度
半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。
高濾過精度0.003μmの性能をそのままに、低圧力損失を実現!
半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。 従来のPGFシリーズと全く同じ外形寸法で約2倍の流量を処理できます。
濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。
全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.003μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
濾過膜はPTFE製2層構造
(株)ピュアロンジャパン製ガスフィルターです。 濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.01μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。
最大1,000lpmまでの流量を確保
■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、ハウジングにはSUS316L材を使用しております。 ※半導体製造装置からPV用バルクガス供給ライン等幅広い用途にご使用できます。