ガスフィルタのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ガスフィルタ - 企業6社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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企業ランキング

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  1. 株式会社渡辺商行 東京都/電子部品・半導体
  2. エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部 東京都/産業用電気機器
  3. 株式会社ピー・ジェイ 福島県/電子部品・半導体
  4. 4 スウェージロック・ジャパン 兵庫県/電子部品・半導体
  5. 5 富士フィルター工業株式会社 東京都/その他 本社

製品ランキング

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  1. インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」 株式会社渡辺商行
  2. パルスジェット高温ガスフィルター(製造設備用プロセスフィルター) 富士フィルター工業株式会社 本社
  3. ガス・フィルター 「FCシリーズ」 スウェージロック・ジャパン
  4. GasPro PTFE ガスフィルター TEM-200シリーズ エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
  5. 4 GasPro 高温用ガスフィルター TEM-700シリーズ エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部

製品一覧

1~15 件を表示 / 全 34 件

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パルスジェット高温ガスフィルター(製造設備用プロセスフィルター)

焼結されている金属フィルター濾材で主に500℃まで対応可能。素材によって高温対応の製品もあり!(詳細は御問合せください)

フィルターエレメントの特性を活かし、クリーンエネルギーの分野で活躍するフィルターシステムを提案しています。特に、パルスジェット用ガスフィルターのエレメントとして、水素製造、SAF、バイオマス燃料製造、GTL・CTL等で活躍しています。 【特長】 フジが提案するダウンフローのパーシャルバックブロー設計が、バックブロー時にガスの流れが交差しない、最も特徴的かつ効率的な構造です。 【提案の範囲】 ・フィルターエレメントの提案・設計・製造 ・フィルターハウジング及びシステム提案・設計・製造

  • ガスフィルタ

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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-100シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA(クリーンドライエア)のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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  • フィルタユニット
  • 窒素ガス発生装置

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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-200シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA(クリーンドライエア)のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-300シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA(クリーンドライエア)のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-500シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA(クリーンドライエア)のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-800シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA(クリーンドライエア)のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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GasPro 高温用ガスフィルター TEM-700シリーズ

最高使用温度 400℃対応の高性能メンブレンガスフィルター

GasProTEM-700シリーズは、反応性のガスやハロゲン化マイクロエレクトロニクスガス用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、フィルター材質は0.01ミクロン。大流量で低いデルタPが必要なケース、またスペースが限られているところに最適です。 本体はグラスファイバーとSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されており、類似サイズのメンブレンフィルターよりも10~20倍高いろ過性能があります。 清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。TEM-700は高温用途向けで(Max.400℃)、様々な接続タイプをご用意しており容易に取り付けられるようになっています。

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  • 窒素ガス発生装置

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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1300

半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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  • フィルタユニット
  • 窒素ガス発生装置

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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1400

半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1500

半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1900

半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

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  • フィルタユニット
  • 窒素ガス発生装置

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集積化ガスシステム対応ガスフィルター

高濾過精度

半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製集積化ガスシステム対応ガスフィルターです。

  • CVD装置
  • ステッパー
  • ガスフィルタ

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インラインセラミックガスフィルター

常に安定した状態で0.003μmの高濾過精度を有するガスフィルターを開発

半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。水や酸素などの不純物の除去を確実に行うための、200℃の高温ベーキングが可能です。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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低圧力損失インラインセラミックガスフィルター

濾過精度

半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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ハステロイオールメタルガスフィルター

全ての材質にハステロイを使用

(株)ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 高流量・高差圧下においても0.003μm以上の粒子を高い効率で除去します。10L/min程度の少流量から250L/min程度の中流量まで幅広いラインナップをご用意しております。従来のメタルフィルターと比較して圧力損失が極めて低く、コンパクトサイズでより高流量のガスを処理できます。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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