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あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。
全数疑縮核式パーティクルカウンターによって０.００３μｍのパーティクル捕捉試験を実施しております。
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造
(株)ピュアロンジャパン製ガスフィルターです。 濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって０.０１μｍのパーティクル捕捉試験を実施しております。
最大1,000lpmまでの流量を確保
■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、ハウジングにはSUS316L材を使用しております。 ※半導体製造装置からＰＶ用バルクガス供給ライン等幅広い用途にご使用できます。
安定した濾過性能
濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって０.００３μｍのパーティクル捕捉試験を実施しております。
