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特許取得の調合方法で当社従来比15％以上のコストダウンを実現！燃料電池・二次電池の触媒スラリーの供給用途等に応用も可能！
『連続式スラリー供給装置 P85』は、半導体のウエハー研磨工程で加工時に塗布されるスラリーを供給する装置です。 冷凍機とヒーターの低容量化で、装置容積は当社従来比61％低減して供給流量も増大。 また、原液補給から供給可能までの所要時間を当社従来比で52分⇒22分に大幅短縮しました。 【特長】 ■当社独自の調合方式でスラリーと純水を調合＜特許取得済＞ →ポンプが不要となり、当社従来比１５％以上のコストダウンを実現 ■当社独自の加熱方式によりスラリーを加熱＜特許取得済＞ →高効率、ハイレスポンスの加熱を実現 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
スラリーに対する高信頼性！秤量タンクを装備し添加剤の投入に対応します！
『スラリー供給装置』は、スラリーを調合タンクで濃度を調整し 供給タンクに移送してポンプで送液するものです。 本装置は、装置本体内部に配管実装部、電気実装部を収納して構成 されています。 配管材料は、基本としてクリーンPVCを採用しています。 原液タンクは、2本を設置し、自動切換えにより連続供給。 タンク内を撹拌して砥粒分布を安定化します。 【特長】 ■沈降性の高いスラリーに対する高信頼性 ■撹拌ポンプ採用で原液タンク内部の循環 ■秤量タンクを装備し添加剤の投入に対応 ■透明PVCで装置内の見える化 ■貴社工場との各種信号取り合いも追加変更可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
自動ラッピング装置をより快適に
ミニマイザー（自動噴霧器）はダイヤモンドスラリーとルブリカントの噴霧時間と供給量をラッピングサイクルに合わせて正確に設定出来ます。ラップ条件通りにスラリーの供給時間をコントロール出来ますので砥粒の過剰供給や不足によるトラブルは発生しません。
ウエハ研磨用
スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です。 【特徴】 ○タンク容量：125L アイボリー塩ビ製 ○ダイアフラムポンプ：10リットル毎分 ○供給エア：85リットル毎分 ○電源容量：AC100V 5A
本装置はCMP装置に連続してスラリー液を供給するためのもので、2種2系統を供給する機能を有する。
本装置はスラリー原液を希釈し研磨装置にスラリーを供給し、送液温度とpH値を制御(オプション機能)するとともに、スラリー液を連続的に供給するための調合タンクと供給タンクを内蔵しています。 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
