1～6 件を表示 ／ 全 6 件
低ノイズ・高分解能・高再現性のクローズドループ制御対応の高性能ピエゾステージ
・移動距離 最大800μm (XY)、最大300μm (Z) ・超薄型モデルあり ・大きな開口部モデルあり ・40 x 40 mm ・66 x 66 mm ・83 x 66 mm ・83.6 x 54 mm ・128.5 x 86.5 mm ・クローズドループ制御 ・低ノイズ、pmレベル ・粗動位置調整用のマニュアルステージとのハイブリッドモデルもご提供 ・多くの倒立顕微鏡と組み合わせ可能 ・高い熱安定性を持つインバール製モデルあり PiezoConcept社製のピエゾステージは、多くの倒立顕微鏡に設置可能なように設計された高性能ピエゾステージです。 優れた分解能・再現性を持つ他、色々な用途に使いやすいように、超薄型かつ大きな開口部を持つなど、多くの特長を持ちます。
44 mm×44 mm の筐体で 120 µm 動作の Z 軸ピエゾナノステージ
Z軸の動作で、ひずみゲージを搭載するモデルは、ヒステリシスとドリフトを高精度に補正します。 Closed Loopタイプは、2nm分解能で、0.1％のリニアリティを実現。 摩耗ゼロのフレクシャガイドは、摩擦、摩耗、バックラッシュがなくナノレベルで動作します。 また、Ｘ軸、ＸＹ軸、ＸＺ軸、ＸＹＺ軸バージョンのステージもございます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。
対物レンズの焦点調整用に専用設計したピエゾステージ
■各メーカの対物レンズが取り付け可能 ・各メーカのレンズねじ径に適合できるよう4種類のねじサイズから選択できます。 ・別売で“ねじ径変換アダプタ”も用意しています。 ・規格外のレンズの取り付けもご相談ください。 選べる4つのタイプ 【横型タイプ】 ・本体の厚みを抑えた構造です。 ・ストロークのバリエーションが豊富で、長い移動量を必要とする場合はこのタイプから選定します。 【縦型タイプ】 ・剛性が高く応答性を重視したタイプです。 ・重いレンズや鏡筒の長いレンズを使用する場合、あるいは高速フォーカスを求める場合に適しています。 【箱型タイプ】 ・対物レンズを中心とした対称形両持ち構造とし、高重量のレンズでも安定したフォーカスが行えます。 ・4本のねじで確実に設置固定でき、製造装置や検査装置への組み込み搭載に適しています。 【鏡筒用】 ・顕微鏡の鏡筒を取り付けてフォーカス方向に微調できます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高真空環境に対応した超小型精密位置決めステージ
Kleindiek社のサブステージは、高真空環境に対応した超小型精密位置決めステージです。電子顕微鏡（SEM/FIB）などの既存のモーターステージの上に乗せることでステージをアップグレードします。 ユーセントリックステージは、FIB向けカーテン効果防止4軸ステージ（ACT）および、ECCI / EBSD / トモグラフィーのようにサンプルのユーセントリックな配置を必要とするアプリケーション向けの5軸ステージ（E5AT）の2種類のラインナップがあります。 LTシリーズは、最小33mm角と非常に小型で、電子顕微鏡(SEM/FIB)を始め、各種真空装置、低温装置など狭スペースへの設置が可能です。駆動原理にピエゾ素子を用いており、非常に精密かつスムースな動作でサンプルの位置決めを行えます。広い動作範囲（最大30cm）と非常に細かい動作分解能（最小0.25nm）を併せ持ち、観察倍率に合わせて動作スピード（分解能）を切換えながら操作します。LTシリーズのラインナップは、サイズ・可動範囲・エンコーダーの有無によって区別されます。
44mm角の筐体で、光学系の焦点調整をナノレベルで実現
光学業界では、高精度な焦点調整が求められます。特に、顕微鏡やレーザー加工機など、微細な操作が要求される場面では、正確な位置決めが不可欠です。わずかなズレが、測定結果の誤差や加工精度の低下につながる可能性があります。当社の小型Z軸ピエゾステージ P-611.Zは、2nm分解能での精密な焦点調整を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズの焦点調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光学測定器の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な焦点調整による測定精度向上 ・微細加工における歩留まり向上 ・装置の性能向上と安定化
44mm角の筐体で、高さ計測をナノレベルで実現。
精密測定の分野では、正確な高さ計測が不可欠です。特に、微細な構造物の測定や、表面形状の精密なプロファイリングにおいては、ナノレベルの精度が求められます。従来の測定方法では、振動や温度変化の影響を受けやすく、正確な測定が困難な場合があります。P-611.Zは、最大0.2nmの分解能と0.1%のリニアリティを実現し、高さ計測における課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの高さ測定 ・MEMSデバイスの形状測定 ・光学部品の厚さ測定 ・表面粗さ測定 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高さ測定が可能 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・製品品質の向上
