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サーボ制御技術との融合により、制御ステージを実現！カスタムメイド対応可能
『τ Linear Stage』は、リニアサーボモータを搭載した高精度ステージです。 X/XYステージを標準ラインアップし、ダイレクトドライブモータ τDISCをθ軸として搭載したXθ/XYθステージの構築も可能。 多ヘッドステージ、XYZ軸ステージ、保護カバー付きステージなど、 お客様の装置仕様にジャストフィットするリニアステージをご提供します。 【特長】 ■高性能保証（オプション） ■豊富なラインアップ ■カスタムメイド対応可能 ■高品質（充実した測定環境体制） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
リミットスイッチ内蔵！DCステッピングモータ付きコンパクトリニアステージ
『L-505』は、DC/ステッピングモータ選択可能な小型リニアステージです。 リニアステージには、フランジモーターを備えた細長いタイプと、 ベルトドライブ(折り畳み式ドライブトレイン)を備えた幅広くコンパクトな タイプ2つのデザインバリエーションをご用意。 また、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定が可能です。 【特長】 ■トラベルレンジ：13mmまたは26mm ■ギヤヘッドなしのステッピングモータあるいはDCサーボモータ選択可能 ■速度：15mm/s ■最大荷重：30N ■リファレンスポイント・リミットスイッチ内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最大33mmの移動量！超小型で高精度ピエゾ駆動リニアステージ
「B-421 BIX」は、筐体幅25mmで厚さ11mmと小型で、最大33mmの移動量を実現。 ピエゾ慣性ドライブにより、比較的高い保持力、高い分解能と位置再現性を発揮します。多軸に組合せも容易に可能で、装置設計におけるスペース制限を解決しつつ、ナノメートルスケールの動作を可能にします。
リニアモータ×エンコーダで高荷重600Nでも滑らか＆高速応答
PI Mag(R)リニアモータとダイレクトエンコーダを組み合わせたV-817は、非接触駆動で発塵を抑え、長期安定性を実現します。 最大負荷600 Nまで対応し、2 µmレベルの位置決め再現性を実現。 動作量は、204, 407, 610, 813 mmの4タイプをラインアップし、ドラッグチェーンや75〜150 mm角M6取付プレートなど豊富なアクセサリで迅速にシステム化できます。 センサーやカメラの組立、精密検査&測定、ウェハー加工&検査、レーザー加工など幅広い産業アプリをサポートします。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。
サイズ35x35x15mm、18 mm動作量、最大速度200 mm/s、電源オフ時はセルフロックで位置保持
U-521は超音波ピエゾモータを搭載した、小型リニア動作ステージです（省スペース設計：幅35 mm、高さ15 mm）。 小型ながら、18 mm動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーで、高精度位置計測を実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で機械的に安定した状態で位置を保持します。そのため、消費電力および発熱を大幅に低減できます。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
0.1 µm分解能と最高4 m/sの高速動作で高精度測定を実現
計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s（4 m/s）により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重（最大600 N）に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応
リニアモータ×高精度エンコーダで高荷重600Nでも滑らか・高速応答
光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制
光学系の精密アライメントに対応する超小型ピエゾ駆動リニアステージ
光学システムでは、レンズやミラー、光学素子の位置調整が性能を大きく左右します。わずかな位置ずれが、像の歪みや測定精度の低下につながる場合があります。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られたスペースにも組み込みやすく、精密な光学アライメント用途に適しています。最大33mmのストロークに対応し、研究開発用途から装置組み込みまで幅広い光学調整ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・計測装置の精密位置決め 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したアライメント ・装置の省スペース設計に貢献 ・再現性の高い光学調整を実現
マイクロマニピュレーションに適した小型リニアステージ
顕微分野では、試料の精密な位置決めが、観察の精度を左右する重要な要素です。特に、微小な対象をナノメートルレベルでの正確な位置制御が求められます。位置決めのわずかなズレが、観察像の劣化や、正確なデータ取得の妨げになる可能性があります。U-521は、小型ながら高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・微小対象の正確な位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・機械的摩擦が少ない ・熱影響が少ない 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ
光学業界における調整作業では、精密な位置決めが求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。微小なズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。リニアステージ M-11x型は、小型ながらも高精度な位置決めを実現し、光学系の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・ファイバーアライメント ・光学部品の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業時間の短縮 ・調整作業の効率化
光学系の精密位置調整に最適。幅60mm・最大200mmストロークのコンパクト高精度リニアステージ
光学システムでは、レンズやミラーなどの光学素子の位置調整が、装置性能を左右する重要な要素です。光軸のわずかなずれや焦点位置の変化は、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじ駆動と高精度リニアガイドにより、光学素子の微調整や光学アセンブリ工程における安定した位置決めを実現します。光学装置や検査装置、研究用途など、さまざまな光学位置決め用途に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工 ・光学アセンブリ ・試験・検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化
サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ
研究開発分野における実験では、精密な位置決めが不可欠です。特に、微細な調整が求められる実験や、限られたスペースでのセットアップが必要な場合に、小型で高精度なリニアステージが求められます。M-11x型リニアステージは、コンパクトながらも高い精度と多様な軸構成を実現し、研究開発の効率化と精度の向上に貢献します。真空（10-6hPa）に適したタイプもあります。 【活用シーン】 ・光学実験 ・顕微鏡観察 ・精密測定 ・微細加工 【導入の効果】 ・実験のセットアップ時間の短縮 ・実験精度の向上 ・省スペース化 ・多様な実験への対応
ナノテクノロジー分野に最適。高発生力とサブナノ精度を両立するリニアステージ。
ナノテクノロジー分野では、原子・分子レベルの操作や微細構造の加工において、サブナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。同時に、測定プローブやワークを安定して保持するための高い発生力と剛性も不可欠です。N-332 Linear Stage は、Piezowalk駆動方式により、高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。従来のステージで課題となる熱影響や振動による誤差を最小限に抑え、安定した高精度位置決めを実現します。 ナノテクノロジー研究を始め、極限の精度が求められるアプリケーションに最適です。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・ナノインプリント ・光学系の調整 【導入の効果】 ・ナノメーターレベルの高精度な位置決め ・安定した動作と高い信頼性 ・多様なアプリケーションへの対応 ・作業効率の向上
最大33mmストローク、半導体装置向け超小型ピエゾ駆動リニアステージ
半導体製造工程では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて高い精度と再現性が求められます。特に微細加工や検査工程では、位置決め精度が製品品質や歩留まりに直結します。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置決めを実現。限られた装置スペース内でも組み込みやすく、精密な位置制御が求められる半導体装置に適しています。 最大33mmのストロークに対応し、コンパクトかつ高性能な位置決めソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング装置 ・マスクアライメント装置 ・半導体検査装置 ・精密アセンブリ装置 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる安定したプロセス制御 ・装置の省スペース化に貢献 ・高精度制御による工程安定性向上
研究開発用途に対応｜最大33mmストロークの超小型ピエゾステージ
研究開発分野では、試料や光学素子、センサなどの精密な位置決めが実験結果に大きく影響します。微細構造の観察や高分解能計測など、わずかな位置変動がデータ精度に影響を与えるケースも少なくありません。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計ながらピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られた実験スペースにも組み込みやすく、研究用途における精密位置決めに適したソリューションです。最大33mmのストロークに対応し、柔軟な実験構成や多軸システムへの拡張にも対応可能です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・微細加工実験 ・材料特性評価 ・光学実験／レーザー実験 ・センサ評価試験 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したデータ取得 ・実験装置の省スペース化に貢献 ・再現性の高い位置決め ・多軸構成による柔軟な実験設計
