半導体製造装置 自動レジスト剥離装置
【デモ機貸し出し可能!】ブラシ洗浄とファインジェット洗浄が組み込まれています
本機はレジスト剥離装置になります。 ローダーにセットされたカセットをロボットが自動的に搬送し、各処理工程を経た後、温風ブロー/スピンドライヤーで乾燥し、アンローダーに払い出す装置です。 詳しくはお問い合わせ下さい。
- 企業:ジャパンクリエイト株式会社
- 価格:応相談
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【デモ機貸し出し可能!】ブラシ洗浄とファインジェット洗浄が組み込まれています
本機はレジスト剥離装置になります。 ローダーにセットされたカセットをロボットが自動的に搬送し、各処理工程を経た後、温風ブロー/スピンドライヤーで乾燥し、アンローダーに払い出す装置です。 詳しくはお問い合わせ下さい。
薬液洗浄工程をなくすことでウエットベンチの設置面積を削減可能!
『AURORA(オーロラ)』は、イオン注入後のレジスト剥離が出来る 低温レジスト剥離装置です。 プラズマ処理とオゾン水処理を組み合わせることで残渣なしで剥離できるほか、 下地膜(Si、SiO2など)を膜べりなしでの剥離にも対応します。 また、硫酸過水、アンモニア過水等の薬液洗浄工程をなくすことで、 ランニングコストおよび工程数を削除可能。 速い除去レート(2~4μm/min)により高いスループットが達成できます。 【特長】 ■剥離性能 ■コスト低減 ■工程数削減 ■設置面積削減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
剥離・リンス・スピン乾燥までの各工程を自動で処理するシステムをご紹介!
当社で取り扱っている「枚葉式レジスト剥離装置」について ご紹介いたします。 ロードポートにFOUPまたは専用カセットをセットするだけで、 クリーンロボットがワークを自動搬送。手動現像装置の製作にも 対応可能です。 ワーク材質はSi、SiC、GaN、GaAs、InP、セラミック、 水晶、樹脂、ガラス、SUS板等に対応しております。 【仕様(一部)】 ■二段カップ(上段:レジスト、下段:リンス) ■剥離液:DMSO/TMAH、ポリイミドほか(チャンバー独立) ■リンス液:ポリイミドほか ■バックリンス:DIW、ポリイミド、再利用液ほか ■剥離・リンス液供給回収タンク 装置内蔵可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。