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低温溶射装置×有限会社エスエスシー - メーカー・企業と製品の一覧

低温溶射装置の製品一覧

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低温溶射用HVAF

工業用ガスを使用しませんので非常に低コストです。ガス温度は450℃から800℃までの間で選択できます。

【装置概要】 大島商船高専・大分高専との共同研究によって、従来のHVAF(High Velocity Air Fuel)の問題点を解消し、不活性ガスを使用する従来のコールドスプレーと同程度までにガス温度を低温にした新しい溶射装置です。 【特徴】 ○ガス温度は450℃から800℃までの間で選択できます。 ○灯油と圧縮空気の燃焼ガスが作動ガスです。窒素・ヘリウムなどは使用しませんので、運転費の大幅な低減が可能です。 ○作動圧力は導入するコンプレッサ等により変化します。 ○流動性が悪く、凝集しやすい数μm以下の粉体も施工可能です。 ○粉体は軸方向から投入します。 【運転費】 時間当たり約1,500円(37KWコンプレッサを使用時)

  • その他加工機械

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