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用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成膜装置
当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。 共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE ICP ICP+RIE ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm 100mm 150mm 200mmです。 【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE ICP ICP+RIE ICP-CVD又はPECVD装置 ■研究開発向け ■ウエハサイズは50mm 100mm 150mm 200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を実現！成膜はプラズマCDV法、スパッタリング等のマルチプロセスも可能
『ロールコーター』は、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に 表面処理をする装置です。 ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を可能にし、 成膜は、プラズマCDV法、スパッタリング法、真空蒸着法等のプロセス を組み合わせたマルチプロセスが可能です。 また、素材ロールの脱ガス対策にTMP＋CRT排気システムの採用しました。 【特長】 ■ドラムレスのフラットWeb搬送が可能 ■処理表面の成膜前非接触搬送が可能 ■マルチプロセスが可能 ■TMP＋CRT排気システムを採用 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
表面処理の用途に！真空漏れ確認用にヘリウムリークディテクターを常備
当製品は、高真空下で製品表面に成膜する装置です。 真空度10^-5Pa、高温にもなりますので真空槽外周には冷却用の水路が 構成されており、真空漏れ確認用にヘリウムリークディテクターを 常備しております。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【コア技術】 ■真空容器製造技術 ■ステンレス加工技術 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
