極低温ALD装置 CMVA-1000 TGV、CPO用
高アスペクトTGV/ TSVに対応可能。ALD用として世界最大チャンバーサイズ（1000mm□）
【特徴】 ●極低温(常温～100℃)での成膜 熱耐性の弱い基板・デバイスに対応可能。 ●リモートプラズマと長寿命OHラジカルの活用 高密度プラズマを用いて反応性の高いOHラジカルを生成。 OHラジカルの長寿命と高い酸化力により、高品質な酸化膜形成が可能。 ●膜の均一性と緻密性 微細構造や高アスペクト比の孔内部でも均一で緻密な膜形成が可能。 【応用例】 ・大面積対応可能 ・高アスペクトTGV/TSVに成膜可能 ・SAWフィルター,太陽電池,その他電子部品デバイスへの成膜が可能 ・CPO（Co-Packged-Optics）など繊細かつ複雑な3D構造への薄膜成膜が可能 ・R＆Dから生産まで対応 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 クリエイティブコーティングスでは、テスト成膜やサンプル作成を承っております。 お客様のご要望を聞きし、適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。 まずはお気軽にご相談ください。
- 企業：株式会社クリエイティブコーティングス
- 価格：応相談
