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酸化物半導体のXRD・XRR分析事例
透明酸化物半導体であるIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進んでいます。 IGZOは膜の組成・酸素欠損の有無・結晶性で大きく特性が変化する材料でもあり、膜質との相関を考慮することが重要です。加熱温度の異なる3種類のIGZO薄膜の結晶性・膜厚・膜密度をXRD・XRRにて測定し、比較を行った事例をご紹介します。高温では結晶化が進み、膜密度が高くなっている様子を非破壊で確認することができました。
着目のガス雰囲気・温度条件下での測定が可能！触媒等、特殊な環境での状態評価が必要な場合に好適
弊団では、in-situ XAFSによるRuO2触媒の化学状態評価を 承っております。 試料周りの環境を着目に応じたガス雰囲気・温度に制御した条件下で、 試料の化学結合状態・局所原子構造が評価可能。そのため、触媒等、 特殊な環境での状態評価が必要な場合に適しています。 in-situ XAFSを用いてRuO2粉末を還元雰囲気下で室温から400℃まで 昇温させ、RuO2の状態変化を捉えた事例では、スペクトルの形状から、 100℃～200℃の間でRuO2がRuに還元されることが確認されました。 【測定法・加工法】 ■[XAFS]X線吸収微細構造 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
昇温しながらの結晶化度の変化が評価可能
プラスチックは高分子鎖が規則正しく配列した結晶性部分と、高分子鎖がランダムに存在する非晶性部分が混在しています。結晶性プラスチックの機械強度・密度・熱的性質などは結晶化度に大きく影響を受けるため、結晶化度を知ることは重要になります。 今回、結晶性プラスチックであるポリプロピレン製フィルムについて、昇温しながらXRD測定を行うことで、結晶化度の変化を調査しました。
XRD・XAFSによる複合解析で、より詳細な評価が可能
high-k材料や強誘電体として注目されているHfZrOx膜は、結晶構造によって誘電率等の物理的性質が大きく変化することから、結晶構造の同定・各結晶構造の含有割合の算出が重要な評価項目です。 通常XRDやXAFSによって評価可能ですが、一方の手法だけでは詳細な解析が困難な場合でも、これら2つの手法を組み合わせることでより詳細な情報が得られます。今回、XRDとXAFSの複合解析によって、HfZrOx膜の結晶構造の同定および、各結晶構造の含有割合の算出を行った事例を紹介します。
