表面分析装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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表面分析装置 - メーカー・企業14社の業務用製品ランキング | イプロスものづくり

更新日: 集計期間:2026年07月08日~2026年08月04日
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表面分析装置のメーカー・企業ランキング

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  1. 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST 東京都/試験・分析・測定
  2. 株式会社パスカル 大阪府/産業用機械
  3. 東邦化研株式会社 埼玉県/電子部品・半導体
  4. 4 株式会社カネカテクノリサーチ 本社、大阪分析センター、高砂分析センター 大阪府/試験・分析・測定
  5. 4 ザ・ブルーボアハウス株式会社 東京都/産業用電気機器

表面分析装置の製品ランキング

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  1. 【分析事例】ポリイミドのイミド化反応評価 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
  2. 飛行時間型原子散乱表面分析装置『TOFLAS-3000』 株式会社パスカル
  3. 【分析事例】ウェハ上異物・付着物の 無機・有機同時定性分析 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
  4. プローブに原子を採用した表面分析装置(CAICISSの発展版) 株式会社パスカル
  5. 4 【分析事例】シリコン(Si)酸化膜の状態評価 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

表面分析装置の製品一覧

1~30 件を表示 / 全 61 件

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北野精機株式会社 真空・実験装置の技術的サービス

メーカー問わず、どんな装置でもお気軽にお問い合わせ下さい!

お客さまに安心して製品をご使用いただくためには信頼できるサポート体制も不可欠です。 北野精機ではお客さまにご使用いただいている装置の状態を最良に保つため、充実したサポート体制を整えています。 お客さまの製品使用環境や、さまざまなニーズに合ったサービスを適正なコストで提供いたします。 【各種装置・ユニット類】 ○蒸着装置(MBE・CVD・EB・スパッタなど) ○分析装置(STM・FIM・TEM・AESなど) ○各種マニピュレーター ○各種試料搬送機構 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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グラフェン結晶薄膜・表面分析装置

MBE成膜機構や表面熱分析機構、RHRRD結晶構造解析システムなどで構成されています!

当製品は、「MBE法」と「表面熱分解法」を併用したグラフェン結晶薄膜 成長機構とRHEED/LEED表面分析機構を連結したinsituシステムです。 6H-SiC微傾斜([1-100]4°off]基板の(0001)面(Si面)を用いて、 グラフェンの成長を行った際、回折パターンよりグラフェンの形成を 確認。 また、顕微Raman測定でもグラフェンの形成を確認しました。 【構成】 ■「グラフェン薄膜成長用高温Kセル」を備えたMBE成膜機構 ■「SiC基板を熱分解する加熱ホルダー」による表面熱分析機構 ■RHRRD結晶構造解析システム ■LEED表面観察システム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 分析機器・装置
  • 表面分析装置

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【資料】分析機器一覧

白色干渉搭載レーザ顕微鏡や顕微ラマン分光測定装置など!分析機器を多数掲載

当資料では、さまざまな分析機器を一覧表にしてご紹介しております。 「高分解能ガスクロマトグラフ質量分析装置(HRGC/HRMS)」をはじめ、 「超薄膜スクラッチ試験機」や「マイクロビッカース硬さ試験機」など 豊富に掲載。 また分析項目は、分子量分布や分離分析といった“材料分析関連”と、 放射線測定や悪臭分析などの“環境測定分析関連”がございます。 ぜひ、ダウンロードしてご覧ください。 【掲載機器設備(一部)】 ■超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡-EDS(FE-SEM/EDS) ■走査電子顕微鏡-エネルギー分散形特性X線分析装置(SEM-EDS) ■エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX) ■紫外可視近赤外分光分析装置(UV-VIS-Nir) ■フーリエ変換赤外分光分析装置(FT-IR) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • その他環境分析機器
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【分析事例】有機薄膜太陽電池電極界面の状態、有機膜の分散状態評価

雰囲気の影響を最小限に抑えた総合的な評価解析が可能です

有機デバイスは酸素や水に影響されやすい材料を使用したデバイスです。MSTでは雰囲気の影響を最小限に抑えたサンプル搬送・加工方法・測定環境を整え分析を行っており、より真に近い状態評価が可能です。XPS分析で有機膜と電極の界面の状態評価を評価しました。有機膜表面に存在するチタニアの組成、結合状態を確認できます。TOF-SIMS分析でバルク・へテロ構造有機薄膜太陽電池の有機膜中のP3HT (p型有機半導体)とPCBM (n型有機半導体)の分散状態を深さ方向で確認しました。

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【分析事例】LIBの充放電サイクル試験後の劣化評価

電池セルの作製から充放電サイクル試験から解体、劣化成分量の調査まで

二次電池の劣化のメカニズムを調べる際に、電極表面の付着物を解析することが重要となっています。MSTではサンプルを雰囲気制御下でTOF-SIMS測定を行いますので、電極最表面の化学状態を大気暴露による変質無く評価することが可能です。 また、充放電サイクル試験から電極表面の測定まで一貫して行うことで、充放電の状態と電極表面の付着物の状態の相関を調べることができます。

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【分析事例】有機EL素子の電極/有機層界面の状態評価

不活性ガス雰囲気下で前処理からXPS測定まで行います

バッファー層/Alq3界面を物理的に剥離(ピーリング)し、剥離面(バッファー層側)のXPS分析を行いました。不活性ガス雰囲気下でピーリングすることで化学構造を破壊せずに界面を露出でき、さらに不活性ガス雰囲気を保ったままXPS装置に搬入することで剥離後の変質(酸化・吸湿など)を抑えました。バッファー層の主成分はLiFで、その一部が酸化している可能性が示唆されました。雰囲気を制御することで、成膜方法・処理方法・有機層の違い等によるAl、 Li等金属元素の酸化状態を評価することが可能です。

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【分析事例】有機EL材料TOF-SIMSのRGB素子深さ方向分析

雰囲気制御下でのGCIB(Arクラスター)を用いた有機EL層構造・劣化層の評価

有機ELディスプレイは高精細化・低消費電力化の可能性を秘めた材料であり、市場拡大が期待されています。近年では画質の高精細化のために配列画素が微細化されていく傾向がみられています。 小さな画素を狙って測定を行う場合、従来の斜め切削TOF-SIMS測定では、深さ方向の評価が困難でしたが、今回GCIB(Arクラスター)を導入することで、微小画素でも深さ方向に再現性良く有機EL材料の評価が可能であり、材料の劣化・拡散評価も可能となりました。※GCIB:Gas Cluster Ion Beam

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【分析事例】GCIB_Arクラスター有機材料劣化成分深さ方向分析

雰囲気制御下でのGCIBを用いた有機EL層構造および劣化層の成分評価

大気暴露することで劣化が生じる有機材料について、GCIB(Arクラスター)を用いて劣化成分を深さ方向に分析した事例を紹介します。実験には有機EL原料のルブレンを用いました。大気暴露したサンプルをTOF-SIMSで測定をした結果、ルブレンペルオキシドと推定される質量(m/z 564)や、低分子のベンゼン系の質量(m/z 77、105)が検出されました。これらの劣化に起因する成分は、表面から約1μm以上の深さにわたって存在していることを確認しました。※GCIB:Gas Cluster Ion Beam

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【分析事例】食品用の耐熱用PETボトルの積層構造分析

TOF-SIMSを用いてPETボトルの層ごとの成分を特定可能

PETボトルはわずかな空気(酸素)を透過するため、PETボトル内の飲料は、外部からの酸素侵入の影響を受けやすくなり、品質が劣化します。そのためにPETボトルには様々な工夫がなされており、例えば図1のように酸素吸収層をPET間に挟むことで飲料の劣化を防ぎ、おいしいさが保たれています。 本資料では、酸素吸収層がどのようなものから構成されているのかを確認するために、TOF-SIMSで分析した結果を紹介します。

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【分析事例】IGZO膜の化学状態評価

XPS・UPSを用いた結合状態・電子状態評価

IGZO膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進んでいる材料です。 複数の金属元素から構成されるため、プロセスによってどのように組成や結合状態、電子状態がどのように変化するかを把握しておくことが重要です。 XPS・UPSを用いてIGZO膜表面の組成・結合状態・電子状態を評価した事例をご紹介します。

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【分析事例】高分子表面のイオン照射による損傷層の評価

GCIB(Arクラスター)を用いることで損傷層の成分・厚さ評価が可能

高分子材料の表面にイオン照射を行うことにより、表面特性の変化が生じます。この変化を利用し、機能性材料の開発など広い分野で研究が行われています。イオン照射後、表面状態にどのような変化が生じたのか評価することは、効率的な研究・開発に重要です。 TOF-SIMS分析では、スパッタイオンビームにGCIB(Gas Cluster Ion Beam)を用いることで、高分子材料表面のイオン照射による損傷層(ダメージ層)の成分・厚さを評価することが可能です。

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【分析事例】DLC膜のsp2/(sp2+sp3)比の評価

C1s波形解析を使用したsp2/(sp2+sp3)比の評価

高硬度・高耐摩耗性等の特長から、幅広い分野で活用されてるDLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜は、グラファイトとダイヤモンドの中間に位置した材料であり、膜中のsp2(グラファイト構造)とsp3(ダイヤモンド構造)を分離して求められるsp2/(sp2+sp3)比は、膜の特性を決定する重要な要因の一つとなります。 このsp2/(sp2+sp3)比について、XPSのC1sスペクトルを波形解析することで評価した例をご紹介します。

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【分析事例】エッチングによる有機付着物除去

表面汚染を除去してXPSによる評価を行います

XPSは表面敏感な手法のため、大気等による有機付着物由来のCが主成分レベルで検出されます。こういった有機付着物由来のCの影響を減らすことは、膜本来の組成を評価する上で重要です。 通常、有機付着物の除去にはArイオンスパッタを用いますが、スパッタによるダメージにより膜本来の組成、結合状態が評価できない場合があります。Arイオンスパッタを使用せず、表面酸化層をウェットエッチングを用いて除去することで、有機付着物由来のCの影響を低減させた例をご紹介します。

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XPS・AESによる深さ方向分析の比較

XPS:X線光電子分光法 AES:オージェ電子分光法

XPSとAESは表面敏感な分析手法でありサンプル表面の評価に広く用いられますが、イオンエッチングを併用することで深さ方向の分析が可能となります。 深さ方向分析を行うにあたり、測定したい領域やサンプルの材質に応じてXPSとAESを適切に使い分けることが、目的に沿った分析を行う上で重要です。 XPSとAESの深さ方向分析の特徴について、SUS不動態膜の分析を例として比較します。

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【分析事例】TOF-SIMS Siウエハ保管による表面汚染評価

フッ酸処理で酸化膜を除去したSiウエハの汚染・酸化の評価

試料搬送時の汚染及び酸化の影響についての知見は、検出深さがnmオーダーの表面分析において重要です。そこで、保管方法の違いによる汚染・酸化の影響をSiウエハにおいて検討致しました。 薬包紙・アルミホイル保管では、一般的に見られる二次汚染による有機物のピークは弱い傾向が見られます。試料保管・搬送時にアルミホイルのつや無し面で包んで保管すると、他の保管方法に比べて汚染、酸化を抑制することができます。

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【分析事例】有機EL発光層の成分分析

雰囲気を保ったまま解体・前処理から装置導入まで可能

有機EL材料は空気に触れると変質することが知られています。窒素雰囲気中と大気中に放置した発光材料表面の状態についてTOF-SIMSから得られた結果を紹介します。窒素雰囲気で作製したサンプルでは親イオンが主として検出されますが、空気中に放置すると親イオンに酸素がついたフラグメントが検出されています。変質しやすい原料については大気にさらさず分析することが必要です。

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【分析事例】表面酸化膜のある異物の状態評価

水酸化アルミニウムAl(OH)3と酸化アルミニウムAl2O3の評価が可能です

金属の異物を定性評価したい場合、最表面のみを分析すると異物表面に存在する酸化膜の情報となってしまうため、異物そのものの情報が得られないことがあります。 TOF-SIMSにより深さ方向に分析を行うことで、酸化膜より深い位置にある異物そのものの組成・状態評価が可能です。 本資料では、Al系の異物と思われる3箇所の状態を評価した事例をご紹介します。

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【分析事例】XPSによるプラスチック容器ガスバリア膜の評価

有機膜の定性・各元素の結合状態の分離および定量化

多くの食品に用いられているPETボトルを例としたプラスチック容器では、軽量で割れないなどの特長を持つ一方で、缶やビンよりもガスバリア性が低い点が課題とされてきました。近年では酸素の侵入や炭酸の損失による品質の劣化を防ぐため、PETボトルにガスバリア膜をコーティングする技術が開発され、広く利用されています。本資料では、市販のPETボトルの測定から、ガスバリア膜の組成及び化学結合状態評価を行った事例を紹介します。

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【分析事例】μm(ミクロン)オーダーのXPS深さ方向分析

数μmの深さまで深さ方向分析を行います

XPSは表面敏感な手法でありサンプル表面の評価に広く用いられますが、イオンエッチングを併用することで深さ方向の分析が可能です。 XPSでは深さ方向の組成分布に加えて結合状態の評価も可能なため、装置部材表面の変色の原因調査などに適しています。 本資料ではターボ分子ポンプの羽の変色部について、XPSで評価した事例を紹介します。

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【分析事例】有機EL(OLED)発光層の解析

発光層のゲストの定量・膜厚評価が可能

有機ELディスプレイは自発光原理による高輝度、高精細カラー、薄型化等の利点を活かし実用化が進みつつあります。発光層では発光効率を高めるために、ホスト分子中にゲスト分子がドーピングされています。今回、有機EL表示素子において赤色画素の発光層材料の同定を行いました。また、新規に段 差計を用いた発光層の膜厚評価や発光層中におけるゲスト材料の定量を行いました。発光層中のゲスト分子の定性・定量ならびに発光層の膜厚の評価が可能となりました。 測定法:TOF-SIMS・TEM・XPS 製品分野:ディスプレイ 分析目的:組成評価・同定・膜厚評価 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。

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  • 液晶ディスプレイ
  • 表面分析装置

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【分析事例】ポリイミドのイミド化反応評価

加熱条件の違いによるイミド化の進行度合いをXPSで評価できます

ポリイミドは非常に高い耐熱性を有し、また電気絶縁性・機械特性にも優れていることから、電子部品のみならず精密機械・自動車・航空等の広い分野において必要不可欠な材料です。その信頼性評価にお いて、イミド結合に関する調査は重要です。本資料では、加熱前後のポリイミドについてXPS測定を行った例をご紹介します。O量の変化及びC、N、Oのケミカルシフトより、加熱後にイミド化が進行していることが確認されました。また波形解析を行うことで、ポリイミドの存在割合を求めることも可能です。

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【分析事例】二次電池正極表面被膜の組成分析

有機成分および活物質表面の分布評価、定性分析

リチウムイオン二次電池の正極表面における成分の偏析や被膜の形成は、電気容量に影響する一因と なります。正極として用いられるLi(NiCoMn)O2(NCM)について、AESによる微小領域マッピングおよびXPS、TOF-SIMSによる有機成分(バインダー)や活物質表面被膜の定性分析を行った事例を紹介いたします。これらの手法では、測定までの一連の処理をAr雰囲気下で行い、試料の変質を抑えた分析が可能です。

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【分析事例】ウェハ上異物・付着物の 無機・有機同時定性分析

微小特定箇所の無機成分・有機成分を同時に測定

TOF-SIMSには有機物、無機物の同時評価、微小領域に対応、最表面を感度よく分析できるなどの特徴がありますので、洗浄工程での残渣調査などに力を発揮します。 Siウェハ上で純水を乾燥した事例を紹介します。光学顕微鏡では点状の異物や曇りがわずかに見えるだけです。TOF-SIMSで測定した結果、汚れ部では、炭化水素、PDMS、アミドなど自然に吸着しやすい有機成分が凝集していることがわかりました。

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【資料DL可:XPS/AES/AFM】表面分析に関する事例集2

変色調査や表面改質評価などXPS、AES、AFMによる事例を厳選しました。ぜひご覧いただき資料ダウンロードください

当事例集では、『表面分析』にかかる事例をご紹介します。 「XPSによる材料表面の変色調査」をはじめ、「XPSによるPET表面改質評価」や、 「XPSによる撥水膜の分析」、「メッキ部品の加熱影響評価」などの 特長や分析事例を多数掲載。 他にも、解析結果や変色調査、表面改質評価、撥水膜の分析などご紹介しております。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■XPSによる材料表面の変色調査 ■XPSによるPET表面改質評価 ■XPSによる撥水膜の分析 ■メッキ部品の加熱影響評価(AFM、AES) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • その他金属材料
  • その他高分子材料
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【AFM/AESオージェ電子分光装置】めっき部品の加熱影響評価

AFM走査型プローブ顕微鏡/AESオージェ電子分光装置によりめっき部品など多面的な加熱影響調査を行います

AFM走査型プローブ顕微鏡とは、探針と試料表面の間に働く様々な物理的相互作用を検出し、微少領域の表面形状観察、電気・機械物性計測を行う装置です。 この物理的相互作用には、原子間力、摩擦力、静電気力などがあります。 また、大気中、真空中の様々な環境において測定ができ、導電性、絶縁性を問わず試料表面の観察が可能です。 AESオージェ電子分光装置では、材料の極表層(~5nm程度)の元素分析や深さ方向の濃度勾配を調査することが可能です。 この2つの分析装置を使い「めっき済みのコネクタ接点用ピン表面」の加熱影響調査を行いました。 ぜひPDF資料をご一読ください。 また、弊社では本分析装置に加えXPS、GD-OESなどの各種表面分析を行っております。 お気軽にご相談いただければ幸いです。 セイコーフューチャークリエーション 公式HP https://www.seiko-sfc.co.jp/ ※その他の資料もあります。問い合わせボタンからご用命いただければ送付いたします。

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書籍 表面・深さ方向の分析方法【新装版】

表面分析について、分析をご専門としていない開発者や製造者の方にも分かりやすく解説!

○発刊日2007年12月10日○体裁B5判並製本 618頁○価格:本体 33,000円+税 →STbook会員価格:31,350円+税 初版 2007年12月 本書は、2007年12月発刊「表面・深さ方向の分析方法」 (ISBN 978-4-903413-30-3)の装丁および価格を改訂したものです。 内容は2007年の書籍と同じですので、ご購入時にお間違えないようご注意ください。 ○著者: 副島 啓義(株) 島津総合科学研究所 / 寺谷 武(株) 住化分析センター / 村山 順一郎 住友金属テクノロジー(株) / 長町 伸治 (株)イオン工学研究所 / 石井 慶造 東北大学 / 柿田 和俊(株)日鐵テクノリサーチ / 西埜 誠 (株)島津製作所 / 石川 真起志 カメカインスツルメンツ(株) / 星 孝弘 アルバック・ファイ(株) / 川田 哲 エスアイアイ・ナノテクノロジー(株) / 吉見 聡 (株)島津総合分析試験センター / 他45名光

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技術情報誌 201902-02 大気圧RBS分析の開発

技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品質管理等のお役に立つ分析技術の最新情報です。

【要旨】 多くの場合、表面分析において分析対象は真空に保持できるものに限定される。一方で、高速イオンのポテンシャルを応用すれば、分析プローブを大気圧下に引き出すことができる。TRCでは大気圧におけるラザフォード後方散乱分光法(RBS)を検討し、その実現に成功した。本稿では大気圧RBSによる固体/液体界面の深さ方向分析、HeLa細胞中量子ドットの深さ分布評価、及び大気圧RBS/HFS(水素前方散乱分析)による湿潤試料中水素の深さ方向分析事例を報告する。 【目次】 1.はじめに 2.固体/液体界面分析 3.生体試料への展開 4.TRCにおける測定システム開発:大気圧RBS/HFS分析 5.まとめ

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展示会出展・出展社プレゼンのお知らせ「eX-Tech2026」

「JPCA Show 2026」内マイクロエレクトロニクスショー eX-Tech 2026に出展いたします。

2026年6月10日(水)~12日(金) 東京ビッグサイト東展示棟で開催されます 電子機器トータルソリューション展「JPCA Show 2026」内 マイクロエレクトロニクスショー eX-Tech 2026 に出展いたします。

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ブライトサインス社 自動 表面分析装置 5001手持ち式

高速、簡単、正確、非破壊の表面接触角分析装置。 ダイン値にとって代わる、表面エネルギー(濡れ性)を測定します。

ブライトサインス社USAのSurface Analyst 5001 は、ハンディー式完全表面分析装置で、水接触角を分析することで製造業者が接着、コーティング、シーリング、塗装、印刷、または洗浄用途の材料表面の品質を定量化できるようにします。スタンドアロンモデル(非ネットワーク仕様)、現場で手持ち式で測定します。対象材料はウェブ(紙、フィルム、炭素繊維の複合材料)や3D部品材料(鉄、アルミ、非鉄金属やプラスチックなど)なんでも可能です。

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飛行時間型原子散乱表面分析装置『TOFLAS-3000』

結晶方位・極製は15分で一目瞭然!帯電の影響がなく安定した表面分析が可能!

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法(CAICISS)を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャンの実施により結晶表面に固有のパターンが得られ、表面構造の判定を視覚的に容易に行うことができます。 【特長】 ■結晶方位や対称性あるいは極性結晶の表裏などが視覚化される  ※ウルツ鉱構造の結晶(GaNやAlN等)の表裏判別も容易 ■表面近傍の層毎の元素分析と結晶構造解析が簡単  ※極薄膜の解析も可能 ■極点図シミュレーションと同期させれば、“見て来た様に”操作できる ■絶縁体試料や有機分子膜などの配向決定等にも問題なし ■SIMSの同時計測により、不純物の高感度評価(TOFスペクトルと相補的) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※依頼分析も賜っております。

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