プローブに原子を採用した表面分析装置（CAICISSの発展版）
結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可能！飛行時間型原子散乱表面分析装置【依頼分析賜ります！】
『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャンの実施により結晶表面に固有のパターンが得られ、表面構造の判定を視覚的に容易に行うことができます。 【特長】 ■結晶方位や対称性あるいは極性結晶の表裏などが視覚化される ※ウルツ鉱構造の結晶(GaNやAlN等)の表裏判別も容易 ■表面近傍の層毎の元素分析と結晶構造解析が簡単 ※極薄膜の解析も可能 ■極点図シミュレーションと同期させれば、“見て来た様に”操作できる ■絶縁体試料や有機分子膜などの配向決定等にも問題なし ■SIMSの同時計測により、不純物の高感度評価(TOFスペクトルと相補的) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※依頼分析も賜っております。
- 企業：株式会社パスカル
- 価格：応相談
