炉CVD装置 - 企業1社の製品一覧

管状炉CVD装置

長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカーボン成膜をこの一台で実現できます。

オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。

• 企業：株式会社マイクロフェーズ
• 価格：500万円 ~ 1000万円

• その他加工機械