食品製造用 マイクロ波真空乾燥装置（肉類・野菜類の乾燥用途）
素材を直接加熱することで素材の劣化も少なく、効率の良い乾燥が可能。
低温での急速乾燥・濃縮を目的とした装置です。 弊社が長年培ってきたマイクロ波加熱技術を応用し 真空チャンバー内の素材を直接加熱することにより 素材の劣化も少なく、かつ効率の良い乾燥が行えます。
- 企業：株式会社廣電
- 価格：500万円 ~ 1000万円
真空乾燥機(加熱) - メーカー・企業と製品の一覧
更新日： 集計期間:2025年08月20日～2025年09月16日
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真空乾燥機の製品一覧
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加圧乾燥装置・真空乾燥装置
加圧乾燥装置・真空乾燥装置
加圧・加熱による沸点を下げた加圧乾燥方法、真空・加熱による沸点を下げた真空乾燥方法を装置化。 あらゆる製品に対して最適な乾燥方法を提供する装置です。
- 企業：株式会社協真エンジニアリング 本社
- 価格：応相談
400℃真空乾燥器 『OSK 93TI302』
棚ごとに温度制御可能な最高温度400℃まで対応の真空乾燥器です。
乾燥ムラ、収縮、酸化などを起こさず試料を乾燥させます。 棚板ごとに加熱・温度制御可能（特許取得）、安定した温度均一性を維持できます。 350℃までの常用温度に対応。 真空加熱で設定温度まで急速加熱。 安全規格：CE認証品 ステンレス製の庫内で、清掃が容易です。 レベリングキャスター採用により本体の移動・固定を速やかに行えます。 庫内過圧防止機構、過昇温防止回路や漏電ブレーカーなどの安全機能付。 配管・コネクターなどもステンレス鋼製です。
- 企業：オガワ精機株式会社
- 価格：応相談
食品用精密温度制御真空乾燥器『OSK 93TI304』
棚数は10段！PID制御による5面加熱で安定した温度均一性を維持しながら乾燥
『OSK 93TI304』は、食品乾燥用に棚数を増やし5面加熱できる 新たな真空乾燥器です。 精密な乾燥プロセスと広い棚スペースにより、食品用に特化。 最高温度150℃、観測窓、庫内照明つきで、安全規格のCE、UL認証取得品です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■棚数10段の庫内は5面加熱式 ■精密な乾燥プロセスと広い棚スペースにより、食品用に特化 ■PID制御による5面加熱で安定した温度均一性を維持しながら乾燥 ■最高温度150℃、観測窓、庫内照明つき ■安全規格：CE、UL認証取得品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：オガワ精機株式会社
- 価格：応相談
卓上型昇華精製装置『P-20』※製品資料進呈
貴重な有機材料を用いた研究開発・実験に。上位機種と同等の高純度な精製が可能
『P-20』は、小径サイズの石英炉を持った、極少量材料向け昇華精製装置です。 原材料のロスを軽減でき、希少な有機材料の研究・開発にも適しています。 独自の均熱管使用の傾斜温度構造により、なだらかな温度勾配での高純度精製が可能。 また、上位モデル「P-100/150/200」と同等の性能でありながら、卓上サイズにまで小型化。 設置が容易で、標準品のため低価格な点も特長です。 【特長】 ■極少量材料での高純度な昇華精製に対応 ■PID制御による室温～400℃までの加熱が可能 ■加熱ブロックの分割・温度コントロールに対応 ■ヒーター・熱電対の増設可能 ■標準化によるリーズナブルな価格設定 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
- 企業：株式会社エイエルエステクノロジー
- 価格：応相談
【無料テスト試験可能】『フロー型マイクロ波合成装置』
最高温度230℃、最大圧力2.5MPa！独自のマイクロ波制御技術により加熱の効率が向上！卓上サイズで研究から生産工程まで使用可能
『フロー型マイクロ波合成装置』は、当社開発のガラス反応管(蛇管)により効率的に加熱が可能な装置です。 机の上で運転が可能な小型サイズで、研究から生産工程へのスムーズな展開ができます。 【特長】 ■弊社独自のマイクロ波制御技術による効率の向上 ■均一かつ急速な加熱による反応時間の短縮 ■均一加熱と連続的な化学反応による高い再現性 ■均一な加熱と高い再現性による収率の向上 ■コンパクトな反応場による高い安全性 ■自動化による高いコストダウン効果 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社サイダ・FDS 本社
- 価格：応相談
乾燥装置 加熱真空乾燥装置
減圧中も加熱する為、製品の昇温が早く、乾燥時間が短縮
加熱真空乾燥装置は、乾燥速度が速い為、シミが出難く、錆・腐食の発生も少なくなっております。
- 企業：富士ハイテック株式会社
- 価格：応相談
真空乾燥装置『E069』
各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御し、温度指示値の信頼性も非常に高い！
『E069』は、部品を減圧下において加熱し、乾燥処理を おこなうことを目的とした真空乾燥装置です。 各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御。 温度指示値の信頼性も非常に高くなっております。 また、プログラムコントローラにより19パターンのプログラムを 記憶することが可能です。 【特長】 ■部品を減圧下において加熱し、乾燥処理をおこなう ■各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御 ■温度指示値の信頼性も非常に高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社サンバック 本社
- 価格：応相談
amixon 真空乾燥機（VMT型）
省スペースで、各業界の機械表面仕上げに関する基準に適合
タテ型乾燥機で、特殊な混合羽根（ミキシングツール）により理想的な渦巻き運動を生じさせ、本体ジャケットとミキシングツールの加熱を行うことで、短時間での優しい混合・乾燥を実現。 乾燥以外にも加熱、冷却、熱処理、滅菌、反応などの操作も可能。
- 企業：東洋ハイテック株式会社
- 価格：応相談
マイクロ波合成装置 Monowave 200
モノウェーブ200は、小規模から中規模のマイクロ波合成（有機合成・無機合成）用に設計されたマイクロ波合成装置です
高速、高圧、高温の反応のための高度な常時安全機能が万全です。 正確な加熱プロファイルにより、研究開発ラボのすべてのアプリケーションで生産性と製品の純度を向上させます。 再利用可能なバイアル、キャップ、およびセプタムを使用して、消耗品のコストと環境フットプリントを削減します。 また、反応の高速化や選択性向上、無溶媒化等の可能性もあり、合成時のCO2排出削減、環境負荷や製造コストの低減などにも寄与します。 正確な温度測定 温度を正確に測定することは、後の再現性を求めたり、スケールアップ化の鍵になります。Monowaveリアクターは、IR温度センサーを介して温度を測定します。これは、絶対的に正確な温度測定を保証する、堅牢で信頼性の高い温度制御方法です。発熱反応や非常に敏感なサンプルを含む反応など、さらに要求の厳しい反応を正確に制御するために、オプションの光ファイバー ルビー温度計を使用した内部温度測定を同時に行うことができます。 バージョンアップ 購入後、上位クラスのMonowave400、450へアップグレード可能。まずはMonowave200から始めましょう。
- 企業：株式会社アントンパール・ジャパン
- 価格：100万円 ~ 500万円
マイクロ波合成のお役立ち情報
マイクロ波合成、適切な機器とアプリケーション、およびマイクロ波合成をすぐに開始するためのツールに関する包括的な背景情報
オーストリアのグラーツ大学（University of Graz、 Austria) Prof. C. Oliver Kappe 教授の監修による研究者向けデータベース。 従来の還流加熱と比較して、最新の反応器でのマイクロ波加熱は、反応時間を数分にまで大幅に短縮しながら、収率を向上させることができます。それに加えて、現代の実験室リアクターの取り扱いの便利さと安全機能は、世界中でますます多くの化学者が日常の実験室ルーチンでマイクロ波加熱を使用しているさらなる理由です。
- 企業：株式会社アントンパール・ジャパン
- 価格：応相談
省エネ低温乾燥に！マイクロ波真空乾燥装置 HMVD2-1
省エネルギー！低温乾燥！素材変性なし！低温での急速乾燥・濃縮を可能にしたマイクロ波真空乾燥装置
「マイクロ波真空乾燥装置 HMVD2-1」は、低温（約35℃）で水分を沸騰させ蒸気にして排出し乾燥させる真空乾燥装置です。 低温で乾燥させるため、温度による素材変性がなく、食品の品質を劣化させることがありません。 弊社が培ったマイクロ波加熱技術を応用し、チャンバーを真空にすることにより実現致しました。 また、乾燥を行うと同時に、発生した蒸気を冷却・凝縮することにより、抽出液として取り出すことが可能です。 【特徴】 ■真空乾燥により低温乾燥を可能に ■直接加熱でエネルギー効率化・時短乾燥 ■マイクロ波加熱方式で素材劣化の防止 ■蒸発物を冷却凝縮、抽出液として取り出し可能 ■食品・薬品等の乾燥・濃縮が可能 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：株式会社廣電
- 価格：応相談
高容量精密温度制御真空乾燥器『OSK 93TI303』
CE、UL認証取得品！複数のヒーターの個別温度管理により精密な温度制御が可能
『OSK 93TI303』は、棚板ごと加熱方式により精密温度制御ができる高容量の 真空乾燥器です。 高濃縮食品、化学、セラミックの結晶、粉末の乾燥に適合（40℃以下乾燥可能）。 多量の水分を含む試料（含水率3％以下まで）も乾燥できます。 真空加熱で設定温度まで速やかに到達し、保温性の高い筐体で安定した 温度均一性を維持できます。 【特長】 ■高濃縮食品、化学、セラミックの結晶、粉末の乾燥に適合（40℃以下乾燥可能） ■多量の水分を含む試料（含水率3％以下まで）も乾燥可能 ■棚板ごとに加熱・温度制御可能 ■精密な乾燥プロセスを要求される食品業界などでも利用可能 ■真空加熱で設定温度まで速やかに到達 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：オガワ精機株式会社
- 価格：応相談
真空乾燥機 高輻射真空乾燥機
弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ２倍以上の乾燥率、乾燥時間は半分以下への短縮を実現！
「もっと効率の良い真空乾燥機は作れないのか…」答えは"高輻射"にありました！ 弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ２倍以上の乾燥率、 乾燥時間は半分以下への短縮を実現。 真空環境下では、対流による加熱ができないため、加熱方法としては、伝導熱または輻射熱による加熱となります。 真空下で高輻射を実現できるということは、加熱が素早くでき、大幅なコストダウンにも繋がります。 真空乾燥機の熱源部に、弊社独自の画期的な特殊加工（特許出願中）を行うことで、真空下での輻射熱を増すことに成功し、ワークの熱吸収量が格段に上がることが確認できました。 弊社、真空乾燥機のどの機種にも対応可能、テスト機による比較検証もできます。
- 企業：株式会社島川製作所
- 価格：応相談
