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研磨(サファイア基板) - メーカー・企業と製品の一覧

研磨の製品一覧

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酸化物系基板用研磨剤『CHEMISTER CL-シリーズ』

お客様に好適なポリッシング剤をカスタムメイドでご提供します!

当社の『CHEMISTER CL-シリーズ』は、酸化物系基板用に開発した、 高い研磨Rateと研磨面品質を実現する研磨剤です。 SAWデバイス用基板に利用されるタンタル酸リチウム(LiTaO3)をはじめ、 ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、サファイア、酸化亜鉛、ガーネットなどを 対象としています。 【特長】 ■コロイダルシリカを砥粒としたポリシング用鏡面研磨剤である ■難加工性材料である、タンタル酸リチウム(LiTaO3)、サファイア等に  対して、高い研磨Rate、研磨面品質を実現 ■お客様のニーズ・ご要望にお答えしカスタマイズした研磨剤を提供 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

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不織布パッド『SUBA(TM)』

幅広い用途に使いやすい不織布パッド

『SUBA(TM)』はシリコンウェーハやガラス基板、サファイア基板から GaN・SiC基板まで様々な種類の基板に対応できる研磨パッドとして、 高い性能と安定性・信頼性を発揮する不織布パッドです。 様々な用途に対応できる幅広いラインアップで理想的な研磨仕上がりを達成します。 より平坦度を重視した硬質系、平面度を重視した軟質系等、様々なご要望に お応えいたします。 【特長】 ■幅広い研磨対象に用いられる、高研磨レートを特長とした不織布系パッド ■標準品だけで10種類以上をラインアップ ■高硬度、高密度なパッドは仕上り平坦性が向上 ■低硬度、低密度なパッドはディフェクトが低減 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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