膜厚測定のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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膜厚測定(正確) - メーカー・企業と製品の一覧

膜厚測定の製品一覧

1~4 件を表示 / 全 4 件

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非破壊膜厚測定『PosiTest』

コンパクト、軽量、安定した精密さ。どんな場所でも使用可能!

『PosiTest』は、正確、高信頼性な非破壊測定が可能です。 カーバイドチップを使用しているため寿命が長く精度を維持。 ダイヤルカバーの中央を動かすだけで簡単にキャリブレーションの 再調整が可能です。 全体でパーツにフィット、先端部だけでも測定できます。 【特長】 ■NIST準拠のキャリブレーション ■全てのアプリケーションに適合するスケールレンジ ■国際標準に準拠 ■丈夫な構造でショック、水、酸や溶剤の影響を受けない ■独特なデザインで持ちやすく測定中にずれない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他計測・記録・測定器
  • 膜厚計

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酸化膜厚測定

測定時間が短く、最大1000秒!酸化膜を種類別に測定が可能なSERA法をご紹介

当社の分析・故障解析、「酸化膜厚測定(SERA法)」についてご紹介します。 SERA法は、薄膜酸化膜厚、薄膜金属膜厚、金属間化合物層が容易かつ 正確に測定可能。Cu2OとCuOのように、酸化膜を種類別に測定する ことができます。 また、ランドの酸化膜厚とはんだ付け性を試験したところ、 加熱処理により酸化膜厚が増し、はんだの広がり面積が減少、 熱処理を繰り返すことで、SnO2の増加が顕著に認められました。 【SERA法での測定可能金属】 ■酸化膜厚:Sn, Ag, Cu, SnAgCu ■金属膜厚:Au, Cu, Ni, Ag, Sn ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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顕微分光膜厚計による透明基板上の高精度膜厚測定

反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定

フィルムやガラス等の透明な基板サンプルの場合、基板の裏面からの反射の影響を受けると正確な測定ができません。 OPTMシリーズの反射対物レンズを使用すると、物理的に裏面反射を除去することができ、透明基板でも高精度に測定ができます。 また、フィルムやSiC等の光学異方性をもつサンプルに対してもその影響を受けること無く上面の膜のみの測定を行うことが可能です。 (特許取得済 第5172203号)

  • 反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定.jpg
  • 分析機器・装置

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顕微分光膜厚計を用いたSiO2 SiNの膜厚測定

反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2(二酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。

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