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小流量域での高い再現性と省スペース化を両立。CO₂削減、排ガス処理、代替燃料評価など研究開発を支える超小型マスフローコントローラ
化学・素材・エネルギー分野の研究開発では、CO₂削減、排ガス処理、代替燃料評価など、環境対応技術の開発が進んでいます。GCシリーズは、こうした用途で求められる小流量域での高い再現性と、省スペースで安定したガス制御を両立する、MEMS式の超小型マスフローコントローラです。 Air、N₂、O₂、CO₂、Ar、CO、CH₄、C₃H₈、N₂O等に対応し、フルスケール流量210～5000sccm（Air換算）、100:1の制御レンジ、±0.25% S.P.の再現性、応答時間は2秒以下（設定値がフルスケールの10%超の場合）を備えています。ラボ装置、小型試験装置、分析設備などに適しており、環境技術の開発を支えるガス制御技術として活用できます。
気体・液体の計測・制御のことなら
お客様のニーズに合わせた一品一様のものづくりで、流体計測制御機器を製造・販売しています。半導体製造工程向けに開発した圧力変動に強いマスフローコントローラST-500や、液温変化時にも高精度な流量計測が可能なカルマン渦流量計FML-300を出展します。精密流量制御の技術力と、多様な産業・研究用途に対応する柔軟性が弊社の強みです。
ブロンコスト製品をお使いのお客様のためのサポートサービスです。24時間・週7日対応のサービスラインをご利用頂けます。
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マスフローコントローラ市場規模は2030年までに30億米ドルに達すると予想されており、予測期間中に8.3%のCAGRで市場成長が見込まれます。 2022年に市場は198万600台の数量に達し、8.1%（2019～2022年）の成長を遂げました。 さらに、代替エネルギー源は、生産プロセス中の正確なガス流量制御に依存することがよくあります。たとえば、太陽電池の製造では、MFCは基板上に半導体材料の薄膜を堆積する化学気相成長（CVD）プロセスで使用されるガスの流れを制御します。したがって、代替エネルギー源の需要が市場の成長を促進します。
高圧ガス保安協会（KHK）認証取得。熱処理工程のガス制御に。
金属熱処理業界では、製品品質を左右する熱処理工程において、ガスの流量を正確かつ安定的に制御することが不可欠です。特に、熱処理炉内の雰囲気ガスは、製品の硬度や強度に直接影響を及ぼすため、適切な流量管理が不良品の発生抑制につながります。 SLA5800シリーズは、熱処理工程で使用される多様なガスに対応し、雰囲気制御に求められる高い再現性と安定性を実現します。また、専用のBESTソフトウェアの機能により、スムーズな設備導入をサポートします。 また、エラストマーシール構造を採用することで、コストと耐久性のバランスに優れた設計を実現。長期運用における保守負荷の低減にも貢献し、熱処理設備の安定稼働を支えます。 【活用シーン】 ・熱処理炉へのガス供給 ・雰囲気ガスの流量制御 ・高精度な温度管理 【導入の効果】 ・熱処理工程の品質向上 ・不良品率の低減 ・高圧ガス関連の手続きの簡素化
ガスの精密制御で、研究開発を加速。KHK認証取得で手続きもスムーズ。
研究機関における各種実験では、ガスの流量および圧力を正確に制御・測定できるかどうかが、実験結果の信頼性と再現性を大きく左右します。特に、カーボンニュートラル関連研究をはじめ、水素、メタン、LNG、二酸化炭素、アンモニアなどのガスを扱う実験においては、わずかな制御誤差が結果のばらつきや評価の不確実性につながる可能性があります。 不正確なガス制御は、実験条件の再現性を損ない、検証作業の増加や研究スケジュールの遅延を招く要因となります。 SLA5800シリーズは、こうした研究現場の課題に対応するため、高精度かつ安定したガス流量制御・測定性能を提供。実験条件の再現性向上とデータの信頼性確保を通じて、研究開発を強力にサポートします。 また、幅広いガス種に対応可能な設計により、基礎研究から応用研究、評価試験まで、多様な研究テーマに柔軟に対応できるマスフローコントローラとして活躍します。 【活用シーン】 ・ガス分析 ・反応実験 ・材料合成 ・燃料電池の研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究効率の向上 ・高圧ガス関連の手続き簡素化
精密マスフローコントローラ。混合プロセスの精度を高め、医薬品品質の安定化に貢献。
医薬品製造において、混合プロセスのわずかな流量変動が製品の有効性や安全性に影響を及ぼします。そのため、ガス流量の高精度かつ安定した制御が不可欠です。 SLAMfシリーズ マスフローコントローラは、高精度制御と優れた長期安定性により、配合バランスの最適化を実現。製造から研究開発まで、幅広い工程において品質の一貫性向上を支援します。 【活用シーン】 ・ 医薬品製造におけるガス混合・供給制御 ・ 研究開発における精密ガス混合 ・ 品質管理工程での流量測定・モニタリング 【導入メリット】 ・ 混合精度の向上による製品品質の安定化 ・ 再現性の高いプロセス制御の実現 ・ 製造効率の向上とロス低減
最高の性能を最大限に引き出すGP200 金属密閉型マスフローコントローラ
研究機関における各種実験では、流量制御の精度がデータの信頼性を大きく左右します。特に微小流量領域においては、わずかな変動が測定結果のばらつきや再現性低下の要因となります。 GP200シリーズ マスフローコントローラは、差圧センサー技術を採用し、優れた応答性と高精度制御を実現。安定した流量供給により、実験データの信頼性向上と再現性の確保に貢献します。 【導入メリット】 ・高精度制御による実験データの信頼性向上 ・再現性の高い測定環境の構築 ・安定した流量供給による実験効率の向上
圧力ベースMFCで成膜プロセスの安定化と歩留まり向上を実現
半導体製造における成膜プロセスでは、ガス流量のわずかな変動が膜厚や膜質に大きな影響を与えます。特にCVD・PVD・ALD工程では、高精度かつ再現性の高い流量制御が、デバイス性能と歩留まりを左右する重要な要素です。GP200シリーズは、差圧センサーと最適化されたコントロールバルブ設計により、高精度な流量計測と優れた再現性を実現。安定したプロセス制御を支援し、高品質な薄膜形成に貢献します。 【活用シーン】 ・CVD（化学気相成長）プロセス ・PVD（物理気相成長）プロセス ・ALD（原子層堆積）プロセス 【導入メリット】 ・膜厚均一性の向上 ・組成制御精度の向上 ・プロセス安定化による歩留まり改善 ・ガス供給の再現性向上
