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大学・研究・開発に好適！ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます
『QEV Series』は、低価格でカスタム性の高いチューブタイプ エキシマランプです。 バッチ照射用ユニットとスキャン照射用ユニットをご用意。 波長は172nm、分布は±15％となっております。 ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます。 ご用命の際は、当社までお気軽にご相談ください。 【バッチ照射用ユニット 仕様（一部）】 ＜QEV-160＞ ■波長：172nm ■ユーティリティ：N2／冷却水／AC100V ■分布：±15％ ■照射開口：176×176 ■対応ワークサイズ：6inch ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高照度172nmエキシマランプ 管面照度150mW/cm²以上
【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素（CDA）を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄 【装置導入事例】 ・G8サイズTFT基板成膜前洗浄装置 ・ロールtoロール洗浄装置 ・レジストアッシング装置
エキシマ光で効率よく表面洗浄、改質！
高光子エネルギー真空紫外光源のエキシマランプによって有機物洗浄、表面改質を低温で行うことができます。 フラットタイプは面自体が発光する高出力、高密度高分布モデルです。
大学・研究・開発に好適！高照度一括照射可能なエキシマ照射ユニット
『SPC Series』は、フラットタイプのエキシマUV照射装置です。 照度分布を従来の±15％から±5％まで向上。高照度一括照射可能な エキシマ照射ユニットとなっております。 ウェハ洗浄をはじめ、露光光源やコータ前処理、レジスト改質などに ご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■真空対応可能 ■照度分布を従来の±15％から±5％まで向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高照度・高分布の搬送処理用ユニット！大学・研究・開発でご活用いただけます
当社で取り扱う、エキシマUV照射装置『OVL Series』をご紹介します。 高照度・高分布の搬送処理用ユニット。照度モニター機能を搭載しており、 フィードバック制御が可能です。 ガラス基盤洗浄をはじめ、コーティング前処理や張り合わせ前処理、 ポリマ表面改質にご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■搬送処理に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
