低分子シロキサン定量分析
低分子シロキサンの確認手法！どの程度の発生量であるかなども分析可能
シリコーン製品から発生する低分子シロキサンが電子部品の接点周囲に 存在すると、電気火花の熱により絶縁物である二酸化ケイ素を生じ、 接点障害を引き起こす事が知られています。 こちらでは、低分子シロキサンの確認手法としてHS-GCMSによる アウトガス定量分析をご紹介。 HS-GCMS分析は、使用している電子部品の周辺に低分子シロキサンを 発生させるような部材が無いか、またどの程度の発生量であるかの分析が 可能です。サンプルサイズや条件など、お気軽にお問い合わせください。 【シリコーン系粘着テープのHS-GCMS分析】 ■シリコーン系粘着剤を使用しているテープをバイアル瓶に封入 ■130℃で30分加温した後、発生したアウトガスをヘッドスペースGCMSにて分析 ■検出された低分子シロキサンについては、環状シロキサンD5換算にて 定量を行った ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社アイテス
- 価格：応相談
